| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| §1-1 太阳电池的研究意义 | 第10-11页 |
| §1-2 太阳电池的研究概况 | 第11-14页 |
| 1-2-1 太阳电池的发展历史和现状 | 第11-12页 |
| 1-2-2 太阳电池的分类 | 第12-14页 |
| §1-3 刻槽埋栅电池的研究现状 | 第14-15页 |
| §1-4 本文主要研究内容 | 第15-16页 |
| 第二章 硅基太阳电池的基本原理 | 第16-26页 |
| §2-1 太阳能辐射和吸收 | 第16页 |
| §2-2 光电转换过程 | 第16-19页 |
| §2-3 P-N 结 | 第19-21页 |
| 2-3-1 P-N 结的制备 | 第19-20页 |
| 2-3-2 P-N 结的能带结构 | 第20页 |
| 2-3-3 P-N 结的光生伏特效应 | 第20-21页 |
| §2-4 太阳电池的基本参数 | 第21-26页 |
| 第三章 硅基太阳电池的基本工艺及相关测试 | 第26-37页 |
| §3-1 硅基太阳电池的基本工艺 | 第26-32页 |
| 3-1-1 工艺流程图 | 第26页 |
| 3-1-2 清洗及绒面结构 | 第26-29页 |
| 3-1-3 扩散形成p-n 结 | 第29-30页 |
| 3-1-4 铝背场及金属电极 | 第30页 |
| 3-1-5 减反射层 | 第30-32页 |
| §3-2 太阳电池的相关测试原理 | 第32-37页 |
| 3-2-1 少子寿命测试 | 第32-33页 |
| 3-2-2 四探针测试 | 第33-34页 |
| 3-2-3 X 射线衍射(XRD) | 第34-35页 |
| 3-2-4 扫描电子显微镜(SEM) | 第35页 |
| 3-2-5 光谱响应测试 | 第35-37页 |
| 第四章 表面钝化及 MgF_2/ZnS双层减反射薄膜 | 第37-50页 |
| §4-1 碘酒和氢氟酸钝化晶硅表面 | 第37-40页 |
| 4-1-1 样品准备 | 第37-38页 |
| 4-1-2 实验过程 | 第38页 |
| 4-1-3 实验结果与分析 | 第38-40页 |
| §4-2 MgF_2/ZnS 双层减反射薄膜的研究背景与研究意义 | 第40-41页 |
| 4-2-1 研究背景 | 第40页 |
| 4-2-2 研究意义 | 第40-41页 |
| §4-3 多层减反射薄膜的优化设计 | 第41-43页 |
| §4-4 MgF_2/ZnS 双层减反射薄膜的制备 | 第43-44页 |
| §4-5 试验结果与分析 | 第44-49页 |
| 4-5-1 ZnS、MgF_2薄膜形貌特性分析 | 第44-45页 |
| 4-5-2 ZnS、MgF_2薄膜结构特性分析 | 第45-46页 |
| 4-5-3 PC1D 模拟MgF_2/ZnS 双层减反射薄膜的反射特性 | 第46-47页 |
| 4-5-4 抛光片上制备的不同厚度配比的MgF_2/ZnS 双层减反射薄膜的反射特性 | 第47-48页 |
| 4-5-5 制绒面上制备的不同减反射材料的反射特性 | 第48-49页 |
| §4-6 小结 | 第49-50页 |
| 第五章 高效刻槽埋栅电池（BCSC）的制备与分析 | 第50-63页 |
| §5-1 刻槽埋栅电池的结构及工艺流程 | 第50-51页 |
| 5-1-1 刻槽埋栅电池的结构 | 第50页 |
| 5-1-2 激光刻槽埋栅电池的制备工艺流程 | 第50-51页 |
| §5-2 SiO_2层的多重作用 | 第51-52页 |
| §5-3 正面电极设计 | 第52页 |
| §5-4 激光刻槽后的槽内清洗 | 第52-53页 |
| §5-5 重扩散及铝背场的作用 | 第53-55页 |
| 5-5-1 槽内重扩散的优越性 | 第53-54页 |
| 5-5-2 铝背场的作用 | 第54-55页 |
| §5-6 化学镀 | 第55-61页 |
| 5-6-1 槽内磷硅玻璃的处理 | 第55页 |
| 5-6-2 化学镀的材料选择与化学镀原理 | 第55页 |
| 5-6-3 化学镀镍 | 第55-58页 |
| 5-6-4 化学镀铜 | 第58-60页 |
| 5-6-5 化学镀银 | 第60-61页 |
| §5-7 电池性能测试 | 第61-63页 |
| 第六章 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 攻读学位期间所取得的相关科研成果 | 第69页 |
