冷中子照相装置成像系统仿真分析
摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-7页 |
第一章 引言 | 第7-21页 |
·中子照相技术概述 | 第7-10页 |
·中子照相技术的发展历史 | 第7页 |
·中子照相技术的特点及应用 | 第7-10页 |
·中子照相技术的分类 | 第10页 |
·中子照相基本原理及装置 | 第10-15页 |
·中子照相基本原理介绍 | 第10-11页 |
·中子照相装置结构 | 第11-15页 |
·冷中子照相技术特点及发展现状 | 第15-19页 |
·冷中子照相技术的特点 | 第15-18页 |
·冷中子照相发展现状 | 第18-19页 |
·本论文的主要工作及研究意义 | 第19-21页 |
·本论文研究内容 | 第19-20页 |
·研究意义 | 第20-21页 |
第二章 冷中子荧光屏仿真分析方法的建立 | 第21-44页 |
·冷中子荧光屏概述 | 第21页 |
·~6LIF-ZNS荧光屏理论模型初步分析 | 第21-23页 |
·~6LIF-ZNS荧光屏计算模型的建立 | 第23-27页 |
·荧光屏特性仿真分析 | 第27-38页 |
·荧光屏点扩散函数(PSF)的仿真计算 | 第27-31页 |
·荧光屏厚度对成像速度、固有分辨率等性能的影响 | 第31-35页 |
·u_1,u_2对荧光屏性能的影响分析 | 第35-38页 |
·不同材料配比荧光屏的仿真分析 | 第38-40页 |
·特定样品下荧光屏光输出图像仿真计算 | 第40-43页 |
·本章小结 | 第43-44页 |
第三章 反射镜、透镜镜头及CCD芯片的仿真分析 | 第44-57页 |
·反射镜、透镜镜头对成像质量的影响 | 第44-52页 |
·反射镜 | 第45-46页 |
·透镜镜头 | 第46-52页 |
·CCD芯片对成像质量影响的分析 | 第52-53页 |
·设定样品最终成像结果的仿真计算 | 第53-56页 |
·本章小结 | 第56-57页 |
第四章 成像系统仿真分析方法的校验 | 第57-62页 |
·实验结果 | 第57-59页 |
·实验样品冷中子照相图像的仿真计算 | 第59-60页 |
·仿真计算结果与实验结果的对比分析 | 第60-61页 |
·本章小结 | 第61-62页 |
第五章 冷中子照相装置初步设计 | 第62-70页 |
·冷中子照相装置成像系统初步设计方案 | 第62-67页 |
·装置结构与参数设计 | 第62-63页 |
·初步设计装置性能评估 | 第63-67页 |
·编制单能冷中子照相荧光屏厚度选择参考数据表 | 第67-70页 |
第六章 结论和展望 | 第70-71页 |
致谢 | 第71-72页 |
参考文献 | 第72-74页 |
附录 | 第74页 |
附录A 硕士期间发表文章目录 | 第74页 |