Co2Z型高频铁氧体薄膜的制备与研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-27页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·薄膜电感发展概述 | 第10-14页 |
| ·平面薄膜电感简述 | 第10-13页 |
| ·双面耦合薄膜电感 | 第13-14页 |
| ·薄膜电感的应用 | 第14-15页 |
| ·薄膜电感磁性层介质 | 第15-18页 |
| ·铁氧体概述 | 第18-21页 |
| ·铁氧体的分类[20] | 第19-20页 |
| ·铁氧体的磁性特征 | 第20-21页 |
| ·六角晶系铁氧体[23-29] | 第21-25页 |
| ·六角晶系铁氧体概述 | 第21-23页 |
| ·Z型铁氧体的晶体结构 | 第23-25页 |
| 参考文献 | 第25-27页 |
| 第二章 薄膜的制备及性能测试 | 第27-38页 |
| ·薄膜材料 | 第27-31页 |
| ·溅射原理 | 第28-29页 |
| ·薄膜的生长 | 第29页 |
| ·基片的选择和清洗 | 第29-30页 |
| ·薄膜的制备 | 第30-31页 |
| ·薄膜性能的表征与测量 | 第31-36页 |
| ·膜厚测量以及薄膜表面形貌、磁畴结构的表征 | 第31-33页 |
| ·薄膜晶体结构分析 | 第33-35页 |
| ·薄膜成分分析[8] | 第35-36页 |
| ·薄膜磁性能的测量 | 第36-37页 |
| 参考文献 | 第37-38页 |
| 第三章 Co_2Z型铁氧体薄膜材料 | 第38-67页 |
| ·Co_2Z型铁氧体薄膜材料的制备 | 第38-42页 |
| ·靶材的制备 | 第38-42页 |
| ·Co_2Z型铁氧体薄膜的制备 | 第42页 |
| ·膜厚的影响 | 第42-45页 |
| ·溅射条件的影响 | 第45-52页 |
| ·氧分压与薄膜材料性能和结构的关系 | 第45-49页 |
| ·溅射气压与薄膜性能和结构的关系 | 第49-52页 |
| ·成膜方法的影响 | 第52-56页 |
| ·热处理的影响 | 第56-66页 |
| 参考文献 | 第66-67页 |
| 第四章 结论 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
