摘要 | 第4-6页 |
abstract | 第6-7页 |
引言 | 第14-16页 |
1 绪论 | 第16-34页 |
1.1 激光材料的选择 | 第16-17页 |
1.2 透明陶瓷的概述 | 第17-26页 |
1.2.1 透明陶瓷的理论基础 | 第17-19页 |
1.2.2 透明陶瓷作为激光介质的可能性及优点 | 第19-20页 |
1.2.3 透明陶瓷的制备方法与烧结工艺 | 第20-26页 |
1.3 LuAG透明陶瓷的概述 | 第26-28页 |
1.3.1 LuAG透明陶瓷的晶体结构 | 第27页 |
1.3.2 LuAG透明陶瓷的物化性质 | 第27-28页 |
1.4 Nd:LuAG的研究现状 | 第28-31页 |
1.4.1 Nd激活离子的能级结构 | 第28-29页 |
1.4.2 Nd:LuAG透明陶瓷作为激光介质的优点 | 第29-30页 |
1.4.3 Nd:LuAG的研究进展 | 第30-31页 |
1.5 课题的提出及研究内容 | 第31-34页 |
2 实验及表征 | 第34-38页 |
2.1 实验原料 | 第34页 |
2.2 实验过程 | 第34-36页 |
2.2.1 真空烧结制备Nd:LuAG透明陶瓷 | 第34-35页 |
2.2.2 热等静压制备Nd:LuAG透明陶瓷 | 第35-36页 |
2.2.3 制备过程所用的设备 | 第36页 |
2.3 实验表征 | 第36-38页 |
3 真空烧结制备Nd:Lu AG透明陶瓷 | 第38-48页 |
3.1 引言 | 第38页 |
3.2 结果与讨论 | 第38-47页 |
3.2.1 原料粉体的性能表征 | 第38-39页 |
3.2.2 Nd:LuAG的相变过程 | 第39-42页 |
3.2.3 烧结温度对Nd:LuAG致密化的影响 | 第42-43页 |
3.2.4 烧结温度对Nd:LuAG微观结构的影响 | 第43页 |
3.2.5 烧结温度对Nd:LuAG透过率的影响 | 第43-44页 |
3.2.6 Nd_2O_3浓度对Nd:LuAG晶粒生长的影响 | 第44-45页 |
3.2.7 Nd_2O_3浓度对Nd:LuAG透过率的影响 | 第45-47页 |
3.3 本章小结 | 第47-48页 |
4 Nd:LuAG激光透明陶瓷的光谱特性及激光性能 | 第48-60页 |
4.1 引言 | 第48页 |
4.2 结果与讨论 | 第48-58页 |
4.2.1 Nd_2O_3浓度对Nd:LuAG晶系结构的影响 | 第48-49页 |
4.2.2 Nd_2O_3浓度对Nd:Lu AG光谱的影响 | 第49-51页 |
4.2.3 Nd:LuAG的激光性能 | 第51-58页 |
4.3 本章小结 | 第58-60页 |
5 热等静压制备Nd:LuAG透明陶瓷 | 第60-68页 |
5.1 引言 | 第60-61页 |
5.2 结果与讨论 | 第61-66页 |
5.2.1 HIP对Nd:LuAG密度的影响 | 第61-62页 |
5.2.2 HIP对Nd:LuAG晶粒尺寸的影响 | 第62-65页 |
5.2.3 HIP对Nd:LuAG透过率的影响 | 第65-66页 |
5.3 本章小结 | 第66-68页 |
全文总结与展望 | 第68-70页 |
参考文献 | 第70-78页 |
致谢 | 第78-80页 |
作者简历 | 第80-82页 |
学位论文数据集 | 第82页 |