中文摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第10-23页 |
1.1 引言 | 第10页 |
1.2 DLC薄膜的结构和分类 | 第10-12页 |
1.3 DLC薄膜的发展史 | 第12-13页 |
1.4 DLC薄膜的生长机理 | 第13-15页 |
1.5 DLC薄膜的沉积方法 | 第15-18页 |
1.6 DLC薄膜的性能及应用 | 第18-20页 |
1.7 DLC薄膜在研究中存在的问题 | 第20-21页 |
1.8 论文的研究意义与研究内容 | 第21-23页 |
1.8.1 论文的研究意义 | 第21-22页 |
1.8.2 论文的研究内容 | 第22-23页 |
第2章 玻璃基DLC薄膜样品的制备与表征 | 第23-32页 |
2.1 辉光放电 | 第23页 |
2.2 磁控溅射原理 | 第23-24页 |
2.3 DLC薄膜的生长 | 第24-25页 |
2.4 仪器设备与DLC薄膜的制备 | 第25-27页 |
2.4.1 磁控溅射设备 | 第25-26页 |
2.4.2 DLC薄膜的制备流程 | 第26-27页 |
2.5 DLC薄膜性能的表征 | 第27-32页 |
2.5.1 硬度测量 | 第27-28页 |
2.5.2 厚度测试 | 第28页 |
2.5.3 薄膜的Raman光谱分析 | 第28-29页 |
2.5.4 薄膜的X射线衍射分析 | 第29-30页 |
2.5.5 薄膜的表面形貌分析 | 第30-31页 |
2.5.6 薄膜的光学透过率分析 | 第31-32页 |
第3章 SiC缓冲层对玻璃基DLC薄膜结构和硬度的影响 | 第32-38页 |
3.1 缓冲层的研究 | 第32-33页 |
3.2 玻璃基SiC/DLC薄膜的制备 | 第33-34页 |
3.3 SiC缓冲层对玻璃基DLC薄膜形貌的影响 | 第34-35页 |
3.4 SiC缓冲层对玻璃基DLC薄膜硬度的影响 | 第35-36页 |
3.5 本章小结 | 第36-38页 |
第4章 沉积参数对玻璃基DLC薄膜结构和性能的影响 | 第38-67页 |
4.1 溅射功率对DLC薄膜结构和性能的影响 | 第38-45页 |
4.1.1 溅射功率对DLC薄膜沉积速率的影响 | 第39页 |
4.1.2 溅射功率对DLC薄膜结构的影响 | 第39-42页 |
4.1.3 溅射功率对DLC薄膜表面形貌的影响 | 第42-43页 |
4.1.4 溅射功率对DLC薄膜硬度的影响 | 第43-44页 |
4.1.5 溅射功率对DLC薄膜光学性能的影响 | 第44-45页 |
4.2 沉积气压对DLC薄膜结构和性能的影响 | 第45-52页 |
4.2.1 沉积气压对DLC薄膜沉积速率的影响 | 第46-47页 |
4.2.2 沉积气压对DLC薄膜结构的影响 | 第47-49页 |
4.2.3 沉积气压对DLC薄膜表面形貌的影响 | 第49-50页 |
4.2.4 沉积气压对DLC薄膜硬度的影响 | 第50-51页 |
4.2.5 沉积气压对DLC薄膜光学性能的影响 | 第51-52页 |
4.3 氩气与乙炔的流量比对DLC薄膜结构和性能的影响 | 第52-60页 |
4.3.1 氩气与乙炔流量比对DLC薄膜沉积速率的影响 | 第53-54页 |
4.3.2 氩气与乙炔流量比对DLC薄膜结构的影响 | 第54-56页 |
4.3.3 氩气与乙炔流量比对DLC薄膜表面形貌的影响 | 第56-57页 |
4.3.4 氩气与乙炔流量比对DLC薄膜硬度的影响 | 第57-58页 |
4.3.5 氩气与乙炔流量比对DLC薄膜光学性能的影响 | 第58-59页 |
4.3.6 氩气与乙炔流量比对DLC薄膜接触角的影响 | 第59-60页 |
4.4 沉积时间对DLC薄膜结构和性能的影响 | 第60-66页 |
4.4.1 沉积时间对DLC薄膜沉积速率的影响 | 第60-61页 |
4.4.2 沉积时间对DLC薄膜结构的影响 | 第61-63页 |
4.4.3 沉积时间对DLC薄膜表面形貌的影响 | 第63-64页 |
4.4.4 沉积时间对DLC薄膜硬度的影响 | 第64-65页 |
4.4.5 沉积时间对DLC薄膜光学性能的影响 | 第65-66页 |
4.5 本章小结 | 第66-67页 |
第5章 总结与展望 | 第67-69页 |
5.1 总结 | 第67-68页 |
5.2 展望 | 第68-69页 |
致谢 | 第69-70页 |
参考文献 | 第70-77页 |
攻读硕士学位期间发表的论文 | 第77页 |