| 摘要 | 第1-13页 |
| ABSTRACT | 第13-16页 |
| 本文的主要创新点 | 第16-17页 |
| 第一章 绪论 | 第17-56页 |
| ·引言 | 第17-18页 |
| ·透明导电薄膜的研究现状 | 第18-23页 |
| ·ZnO基透明导电薄膜的研究进展 | 第23-26页 |
| ·常用透明导电薄膜的制备方法 | 第26-36页 |
| ·透明导电氧化物薄膜的应用 | 第36-37页 |
| ·离子液体概述 | 第37-40页 |
| ·本课题的研究目的、意义及主要研究内容 | 第40-42页 |
| 参考文献 | 第42-56页 |
| 第二章 薄膜制备及其表征 | 第56-64页 |
| ·制备方法及原理 | 第56-57页 |
| ·溶胶-凝胶法制备薄膜 | 第56-57页 |
| ·水热法制备薄膜及其原理 | 第57页 |
| ·测试方法 | 第57-63页 |
| ·霍尔效应测试 | 第58-60页 |
| ·透射-吸收光谱 | 第60-61页 |
| ·X-射线衍射(XRD) | 第61-62页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-64页 |
| 第三章 提拉镀膜法制备Al掺杂ZnO透明导电薄膜 | 第64-104页 |
| ·引言 | 第64-65页 |
| ·薄膜的制备 | 第65-66页 |
| ·仪器与试剂 | 第65页 |
| ·溶胶的制备 | 第65-66页 |
| ·玻璃基片的清洗 | 第66页 |
| ·提拉法制备ZAO薄膜 | 第66页 |
| ·结果与讨论 | 第66-97页 |
| ·溶胶浓度对ZAO薄膜性能的影响 | 第66-75页 |
| ·Al离子掺杂浓度对ZAO薄膜性能的影响 | 第75-82页 |
| ·预处理温度对ZAO薄膜性能的影响 | 第82-85页 |
| ·退火温度对ZAO薄膜性能的影响 | 第85-91页 |
| ·退火气氛对薄膜性能的影响 | 第91-97页 |
| ·本章小结 | 第97-99页 |
| 参考文献 | 第99-104页 |
| 第四章 水热法制备Al掺杂ZnO透明导电薄膜 | 第104-122页 |
| ·引言 | 第104页 |
| ·实验部分 | 第104-106页 |
| ·试剂与仪器 | 第104-105页 |
| ·实验过程 | 第105页 |
| ·样品的表征 | 第105-106页 |
| ·结果与讨论 | 第106-117页 |
| ·薄膜样品的XRD分析 | 第106-107页 |
| ·反应时间对薄膜微结构的影响 | 第107-110页 |
| ·Al离子掺杂浓度对薄膜微结构影响 | 第110-113页 |
| ·薄膜的光学性能 | 第113-115页 |
| ·薄膜的光致发光光谱 | 第115-116页 |
| ·薄膜电学性能 | 第116-117页 |
| ·本章小结 | 第117-119页 |
| 参考文献 | 第119-122页 |
| 第五章 离子液体辅助制备Al掺杂ZnO透明导电薄膜 | 第122-132页 |
| ·引言 | 第122页 |
| ·实验部分 | 第122-125页 |
| ·仪器与试剂 | 第122页 |
| ·离子液体的制备 | 第122-124页 |
| ·溶胶的制备 | 第124页 |
| ·提拉法镀膜 | 第124页 |
| ·样品的表征 | 第124-125页 |
| ·结果与讨论 | 第125-130页 |
| ·薄膜的物相分析 | 第125-126页 |
| ·薄膜的表面结构分析 | 第126-127页 |
| ·薄膜的光电性能分析 | 第127-128页 |
| ·煅烧气氛对ZAO薄膜性能的影响 | 第128-130页 |
| ·本章小结 | 第130-131页 |
| 参考文献 | 第131-132页 |
| 第六章 本课题工作总结与展望 | 第132-135页 |
| ·主要结论 | 第132-134页 |
| ·展望 | 第134-135页 |
| 攻读博士学位期间主要科研成果 | 第135-136页 |
| 致谢 | 第136-137页 |
| 英语论文1 | 第137-152页 |
| 英语论文2 | 第152-163页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第163页 |