| 中文摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-27页 |
| 1.1 引言 | 第9-11页 |
| 1.2 半导体光催化剂应用简介 | 第11-18页 |
| 1.2.1 半导体光催化剂的光催化机理 | 第11页 |
| 1.2.2 光催化剂光解水产氢 | 第11-14页 |
| 1.2.3 光催化剂光催化CO_2还原 | 第14-17页 |
| 1.2.4 半导体光催化剂材料 | 第17-18页 |
| 1.3 半导体光催化剂的改性技术 | 第18-21页 |
| 1.3.1 表面沉积贵金属 | 第18-19页 |
| 1.3.2 离子掺杂 | 第19页 |
| 1.3.3 染料敏化 | 第19-20页 |
| 1.3.4 半导体复合 | 第20-21页 |
| 1.4 类石墨相氮化碳研究现状 | 第21-25页 |
| 1.4.1 类石墨相氮化碳研究背景 | 第21-22页 |
| 1.4.2 类石墨相氮化碳的制备 | 第22-24页 |
| 1.4.3 类石墨相氮化碳的性质及其在光催化中的应用 | 第24-25页 |
| 1.5 本论文的研究意义和主要内容 | 第25-27页 |
| 第2章 胺基改性g-C_3N_4的制备及其光催化CO_2还原性能的研究 | 第27-42页 |
| 2.1 引言 | 第27-29页 |
| 2.2 实验部分 | 第29-31页 |
| 2.2.1 样品制备 | 第29页 |
| 2.2.2 样品xCN的表征 | 第29-30页 |
| 2.2.3 光催化活性的测定 | 第30-31页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第31-41页 |
| 2.3.1 X射线衍射分析 | 第31-32页 |
| 2.3.2 光电子能谱分析 | 第32-35页 |
| 2.3.3 紫外可见漫反射光谱分析 | 第35页 |
| 2.3.4 比表面积和孔分布 | 第35-37页 |
| 2.3.5 CO_2吸附性能 | 第37-38页 |
| 2.3.6 表面电荷分析 | 第38-39页 |
| 2.3.7 光催化CO_2还原性能测试 | 第39-41页 |
| 2.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 第3章 磷掺杂g-C_3N_4的制备及其光催化活性 | 第42-58页 |
| 3.1 引言 | 第42-44页 |
| 3.2 实验部分 | 第44-46页 |
| 3.2.1 磷掺杂g-C_3N_4样品的制备 | 第44页 |
| 3.2.2 磷掺杂g-C_3N_4样品的表征 | 第44-45页 |
| 3.2.3 光催化活性的测定 | 第45页 |
| 3.2.4 电化学测定 | 第45-46页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第46-57页 |
| 3.3.1 相结构和微观结构分析 | 第46-48页 |
| 3.3.2 紫外可见漫反射光谱分析 | 第48-49页 |
| 3.3.3 比表面积和孔分布分析 | 第49-50页 |
| 3.3.4 光电子能谱分析 | 第50-52页 |
| 3.3.5 光催化产氢活性和机理分析 | 第52-57页 |
| 3.4 本章小结 | 第57-58页 |
| 第4章 结论 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-71页 |
| 硕士期间已发表和待发表的研究论文 | 第71页 |
