| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-35页 |
| 1.1 酞菁概述 | 第8-10页 |
| 1.2 金属酞菁配合物的合成方法 | 第10-12页 |
| 1.2.1 模板反应法 | 第10-11页 |
| 1.2.2 插入配位法 | 第11-12页 |
| 1.2.3 直接取代法 | 第12页 |
| 1.3 酞菁薄膜的制备技术 | 第12-17页 |
| 1.3.1 分子级制膜技术 | 第13-14页 |
| 1.3.2 非分子级制膜技术 | 第14-17页 |
| 1.4 酞菁电沉积薄膜的制备和影响因素 | 第17-22页 |
| 1.4.1 酞菁及其衍生物的质子化反应 | 第17页 |
| 1.4.2 成膜基本原理 | 第17-19页 |
| 1.4.3 酞菁电沉积薄膜的影响因素 | 第19-22页 |
| 1.5 酞菁的非线性光学性质与应用 | 第22-33页 |
| 1.5.1 非线性光学简介 | 第22-23页 |
| 1.5.2 酞菁非线性光学性质的测试方法及其机理 | 第23-33页 |
| 1.6 本课题的选题依据和研究意义 | 第33-34页 |
| 1.7 本论文的研究内容 | 第34-35页 |
| 第2章 酞菁配合物溶液的非线性光学性质及机理研究 | 第35-56页 |
| 2.1 酞菁材料的合成与表征 | 第35-41页 |
| 2.1.1 实验仪器与试剂 | 第35页 |
| 2.1.2 酞菁配合物的合成 | 第35-38页 |
| 2.1.3 酞菁配合物的表征 | 第38-41页 |
| 2.2 酞菁的非线性光吸收及光折射性质研究 | 第41-45页 |
| 2.2.1 酞菁溶液的z-扫描测试 | 第41-45页 |
| 2.3 酞菁的激发态性质研究 | 第45-53页 |
| 2.3.1 酞菁的单线态激发态性质研究 | 第46-49页 |
| 2.3.2 酞菁的三线态性质研究 | 第49-53页 |
| 2.4 酞菁溶液的非线性机理讨论 | 第53-55页 |
| 2.4.1 中心金属的影响 | 第53-54页 |
| 2.4.2 周边取代基的影响 | 第54-55页 |
| 2.5 本章小结 | 第55-56页 |
| 第3章 酞菁电沉积薄膜的制备及其非线性光学性质研究 | 第56-76页 |
| 3.1 酞菁电沉积薄膜的制备与表征 | 第56-71页 |
| 3.1.1 酞菁电沉积薄膜的制备原理 | 第56-59页 |
| 3.1.2 酞菁电沉积薄膜的制备 | 第59-61页 |
| 3.1.3 酞菁电沉积薄膜的表征 | 第61-71页 |
| 3.2 酞菁电沉积薄膜的非线性光学性质研究 | 第71-75页 |
| 3.2.1 酞菁薄膜的z-扫描测试 | 第71-75页 |
| 3.2.3 酞菁电沉积薄膜及其溶液的非线性光学性质对比 | 第75页 |
| 3.3 本章小结 | 第75-76页 |
| 第4章 酞菁静电自组装薄膜的制备及其非线性光学性质研究 | 第76-89页 |
| 4.1 CoPcTs/PDDA静电自组装薄膜的制备及非线性光学性质研究 | 第76-83页 |
| 4.1.1 CoPcTs/PDDA静电自组装薄膜的制备 | 第77-78页 |
| 4.1.2 CoPcTs/PDDA静电自组装薄膜的表征 | 第78-82页 |
| 4.1.3 CoPcTs/PDDA静电自组装薄膜的非线性光学性质研究 | 第82-83页 |
| 4.2 ZnPc(COONa)_4/PDDA静电自组装薄膜的制备及非线性光学性质研究 | 第83-87页 |
| 4.2.1 ZnPc(COONa)_4/PDDA静电自组装薄膜的制备 | 第83页 |
| 4.2.2 ZnPc(COONa)_4/PDDA静电自组装薄膜的表征 | 第83-86页 |
| 4.2.3 ZnPc(COONa)_4/PDDA静电自组装薄膜的非线性光学性质研究 | 第86-87页 |
| 4.3 本章小结 | 第87-89页 |
| 第5章 结论 | 第89-91页 |
| 参考文献 | 第91-100页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第100-101页 |
| 致谢 | 第101-102页 |
