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酞菁电沉积薄膜的制备及其非线性光学性质研究

摘要第3-4页
Abstract第4-5页
第1章 绪论第8-35页
    1.1 酞菁概述第8-10页
    1.2 金属酞菁配合物的合成方法第10-12页
        1.2.1 模板反应法第10-11页
        1.2.2 插入配位法第11-12页
        1.2.3 直接取代法第12页
    1.3 酞菁薄膜的制备技术第12-17页
        1.3.1 分子级制膜技术第13-14页
        1.3.2 非分子级制膜技术第14-17页
    1.4 酞菁电沉积薄膜的制备和影响因素第17-22页
        1.4.1 酞菁及其衍生物的质子化反应第17页
        1.4.2 成膜基本原理第17-19页
        1.4.3 酞菁电沉积薄膜的影响因素第19-22页
    1.5 酞菁的非线性光学性质与应用第22-33页
        1.5.1 非线性光学简介第22-23页
        1.5.2 酞菁非线性光学性质的测试方法及其机理第23-33页
    1.6 本课题的选题依据和研究意义第33-34页
    1.7 本论文的研究内容第34-35页
第2章 酞菁配合物溶液的非线性光学性质及机理研究第35-56页
    2.1 酞菁材料的合成与表征第35-41页
        2.1.1 实验仪器与试剂第35页
        2.1.2 酞菁配合物的合成第35-38页
        2.1.3 酞菁配合物的表征第38-41页
    2.2 酞菁的非线性光吸收及光折射性质研究第41-45页
        2.2.1 酞菁溶液的z-扫描测试第41-45页
    2.3 酞菁的激发态性质研究第45-53页
        2.3.1 酞菁的单线态激发态性质研究第46-49页
        2.3.2 酞菁的三线态性质研究第49-53页
    2.4 酞菁溶液的非线性机理讨论第53-55页
        2.4.1 中心金属的影响第53-54页
        2.4.2 周边取代基的影响第54-55页
    2.5 本章小结第55-56页
第3章 酞菁电沉积薄膜的制备及其非线性光学性质研究第56-76页
    3.1 酞菁电沉积薄膜的制备与表征第56-71页
        3.1.1 酞菁电沉积薄膜的制备原理第56-59页
        3.1.2 酞菁电沉积薄膜的制备第59-61页
        3.1.3 酞菁电沉积薄膜的表征第61-71页
    3.2 酞菁电沉积薄膜的非线性光学性质研究第71-75页
        3.2.1 酞菁薄膜的z-扫描测试第71-75页
        3.2.3 酞菁电沉积薄膜及其溶液的非线性光学性质对比第75页
    3.3 本章小结第75-76页
第4章 酞菁静电自组装薄膜的制备及其非线性光学性质研究第76-89页
    4.1 CoPcTs/PDDA静电自组装薄膜的制备及非线性光学性质研究第76-83页
        4.1.1 CoPcTs/PDDA静电自组装薄膜的制备第77-78页
        4.1.2 CoPcTs/PDDA静电自组装薄膜的表征第78-82页
        4.1.3 CoPcTs/PDDA静电自组装薄膜的非线性光学性质研究第82-83页
    4.2 ZnPc(COONa)_4/PDDA静电自组装薄膜的制备及非线性光学性质研究第83-87页
        4.2.1 ZnPc(COONa)_4/PDDA静电自组装薄膜的制备第83页
        4.2.2 ZnPc(COONa)_4/PDDA静电自组装薄膜的表征第83-86页
        4.2.3 ZnPc(COONa)_4/PDDA静电自组装薄膜的非线性光学性质研究第86-87页
    4.3 本章小结第87-89页
第5章 结论第89-91页
参考文献第91-100页
攻读学位期间发表的学术论文第100-101页
致谢第101-102页

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