| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第11-20页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 光子晶体概述 | 第12-14页 |
| 1.3 光子晶体中的色散研究现状 | 第14-17页 |
| 1.4 表面修饰与光子晶体阻抗 | 第17-18页 |
| 1.5 本论文主要工作内容 | 第18-20页 |
| 第二章 光子晶体的研究基础 | 第20-30页 |
| 2.1 引言 | 第20页 |
| 2.2 平面波展开法 | 第20-26页 |
| 2.2.1 无源非磁性电介质中的波动方程 | 第20-21页 |
| 2.2.2 光子晶体中的电磁场本征方程 | 第21-23页 |
| 2.2.3 二维光子晶的介电函数的Fourier变换 | 第23-25页 |
| 2.2.4 光子晶体平面波展开法计算小结 | 第25-26页 |
| 2.3 时域有限差分法 | 第26-30页 |
| 2.3.1 Maxwell方程的差分形式 | 第26-28页 |
| 2.3.2 FDTD稳定条件 | 第28-29页 |
| 2.3.3 边界条件和激励源 | 第29-30页 |
| 第三章 端面修饰对禁带反射位相的影响 | 第30-48页 |
| 3.1 引言 | 第30页 |
| 3.2 理论方法 | 第30页 |
| 3.3 端面截断对二维光子晶体禁带反射位相的影响 | 第30-41页 |
| 3.3.1 二维正方晶格TM模 | 第31-33页 |
| 3.3.2 二维正方晶格TE模 | 第33-36页 |
| 3.3.3 二维三角晶格TM模 | 第36-38页 |
| 3.3.4 二维三角晶格TE模 | 第38-41页 |
| 3.4 端面圆柱半径对二维光子晶体禁带反射位相的影响 | 第41-47页 |
| 3.4.1 二维正方晶格TM模 | 第41-42页 |
| 3.4.2 二维正方晶格TE模 | 第42-44页 |
| 3.4.3 二维三角晶格TM模 | 第44-45页 |
| 3.4.4 二维三角晶格TE模 | 第45-47页 |
| 3.5 小结 | 第47-48页 |
| 第四章 基于光子禁带的反射式啁啾脉冲压缩器研究 | 第48-56页 |
| 4.1 引言 | 第48-49页 |
| 4.2 理论分析 | 第49-50页 |
| 4.3 反射式啁啾脉冲压缩器的设计 | 第50-54页 |
| 4.3.1 二维正方晶格TM模 | 第50-51页 |
| 4.3.2 二维正方晶格TE模 | 第51-52页 |
| 4.3.3 二维三角晶格TM模 | 第52-53页 |
| 4.3.4 二维三角晶格TE模 | 第53-54页 |
| 4.4 小结 | 第54-56页 |
| 结论 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 附录 攻读硕士期间已发表与待发表的学术论文 | 第64页 |