摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第9-24页 |
1.1 光催化技术 | 第9-12页 |
1.1.1 光催化研究背景 | 第9页 |
1.1.2 光催化原理 | 第9-11页 |
1.1.3 光催化技术应用 | 第11-12页 |
1.2 光催化材料 | 第12-15页 |
1.2.1 紫外光响应型 | 第12-13页 |
1.2.2 可见光响应型 | 第13-15页 |
1.3 g-C_3N_4光催化剂的研究 | 第15-19页 |
1.3.1 g-C_3N_4简介 | 第15页 |
1.3.2 g-C_3N_4光催化剂的制备 | 第15-16页 |
1.3.3 g-C_3N_4光催化剂的应用 | 第16-18页 |
1.3.4 g-C_3N_4光催化剂局限性 | 第18-19页 |
1.4 助催化剂 | 第19-22页 |
1.4.1 贵金属助催化剂 | 第19-20页 |
1.4.2 金属氧化物助催化剂 | 第20-21页 |
1.4.3 非金属氧化物助催化剂 | 第21-22页 |
1.5 课题研究内容和意义 | 第22-24页 |
1.5.1 研究目的及意义 | 第22页 |
1.5.2 研究内容 | 第22-24页 |
第二章 实验材料及方法 | 第24-33页 |
2.1 实验材料及仪器 | 第24-25页 |
2.1.1 实验材料 | 第24-25页 |
2.1.2 实验仪器 | 第25页 |
2.2 催化剂性能表征 | 第25-29页 |
2.2.1 X-射线衍射分析(XRD) | 第25-26页 |
2.2.2 扫描电子显微镜分析(SEM) | 第26页 |
2.2.3 透射电子显微镜分析(TEM) | 第26-27页 |
2.2.4 比表面积及孔径分布(BET) | 第27页 |
2.2.5 X-射线电子能谱(XPS) | 第27-28页 |
2.2.6 紫外可见漫反射光谱(UV-vis) | 第28页 |
2.2.7 荧光光谱(PL) | 第28-29页 |
2.2.8 光电化学分析 | 第29页 |
2.3 光催化性能测试 | 第29-31页 |
2.3.1 光催化剂活性评价 | 第29页 |
2.3.2 光催化捕获实验 | 第29-30页 |
2.3.3 标准曲线的绘制 | 第30-31页 |
2.4 催化还原性能测试 | 第31-33页 |
2.4.1 催化还原活性评价 | 第31页 |
2.4.2 标准曲线的绘制 | 第31-33页 |
第三章 CeO_2/g-C_3N_4 光催化剂的制备及其性能研究 | 第33-44页 |
3.1 引言 | 第33页 |
3.2 CeO_2/g-C_3N_4 复合催化剂的制备 | 第33-34页 |
3.3 CeO_2/g-C_3N_4 的物理化学特性 | 第34-40页 |
3.3.1 表面组分分析 | 第34-36页 |
3.3.2 形貌结构分析 | 第36-38页 |
3.3.3 光学性质分析 | 第38-40页 |
3.4 CeO_2/g-C_3N_4 光催化降解甲基橙性能研究 | 第40-42页 |
3.4.1 光催化性能分析 | 第40-41页 |
3.4.2 光催化机理分析 | 第41-42页 |
3.5 CeO_2/g-C_3N_4 其他降解应用 | 第42-43页 |
3.6 本章小结 | 第43-44页 |
第四章 Ag/g-C_3N_4光催化剂的制备及其性能研究 | 第44-61页 |
4.1 引言 | 第44-45页 |
4.2 Ag/g-C_3N_4复合催化剂的制备 | 第45-46页 |
4.3 Ag/g-C_3N_4的物理化学特性 | 第46-53页 |
4.3.1 表面组分分析 | 第46-48页 |
4.3.2 形貌结构分析 | 第48-51页 |
4.3.3 光学性质分析 | 第51-53页 |
4.4 Ag/g-C_3N_4光催化降解甲基橙性能研究 | 第53-57页 |
4.4.1 光催化性能分析 | 第53-54页 |
4.4.2 光催化稳定性分析 | 第54-55页 |
4.4.3 光催化机理分析 | 第55-57页 |
4.5 Ag/g-C_3N_4其他降解应用 | 第57-60页 |
4.6 本章小结 | 第60-61页 |
第五章 结论及展望 | 第61-63页 |
5.1 结论 | 第61-62页 |
5.2 展望 | 第62-63页 |
致谢 | 第63-64页 |
参考文献 | 第64-74页 |
附录 | 第74-75页 |