Abstract | 第1-8页 |
第一章 绪论 | 第8-39页 |
§1.1 超构材料概述 | 第8-10页 |
§1.2 超构材料的制备方法 | 第10-17页 |
§1.2.1 电子束曝光技术 | 第11-13页 |
§1.2.2 聚焦离子束 | 第13-15页 |
§1.2.3 干涉刻印法 | 第15-16页 |
§1.2.4 纳米压印技术 | 第16页 |
§1.2.5 纳米球刻印技术 | 第16-17页 |
§1.3 纳米球刻印技术 | 第17-30页 |
§1.3.1 纳米球刻印技术概述 | 第20-22页 |
§1.3.2 纳米球刻印技术的应用 | 第22-24页 |
§1.3.3 角度分辨的纳米球刻印技术 | 第24-28页 |
§1.3.4 二维胶体晶体模板的制备 | 第28-30页 |
§1.4 论文的主要内容 | 第30-33页 |
参考文献 | 第33-39页 |
第二章 利用角度分辨的纳米球刻印技术制备超构材料及其光学性质的研究. | 第39-62页 |
§2.1 引言 | 第39-41页 |
§2.2 利用角度分辨的纳米球刻印技术制备超构材料 | 第41-45页 |
§2.3 利用角度分辨的纳米球刻印技术制备的超构材料的光学性质 | 第45-57页 |
§2.3.1 利用角度分辨的纳米球刻印技术制备的超构材料磁响应 | 第45-48页 |
§2.3.2 不同溅射角度对超构材料磁响应位置的影响 | 第48-49页 |
§2.3.3 不同尺寸介质微球掩膜板对超构材料磁响应位置的影响 | 第49-52页 |
§2.3.4 不同偏振、不同入射角度下的磁响应行为 | 第52-57页 |
§2.4 本章小结 | 第57-59页 |
参考文献 | 第59-62页 |
第三章 纳米球刻印技术在表面增强拉曼散射中的应用 | 第62-75页 |
§3.1 引言 | 第62-63页 |
§3.2 纳米球刻印技术制备银单三角形纳米颗粒阵列 | 第63-65页 |
§3.3 银单三角形纳米颗粒阵列为衬底研究SERS | 第65-72页 |
§3.3.1 类金刚石(DLC)薄膜的特性 | 第65-67页 |
§3.3.2 改变DLC薄膜厚度对表面增强拉曼散射的影响 | 第67-70页 |
§3.3.3 理论模拟参考 | 第70-72页 |
§3.4 本章小结 | 第72-73页 |
参考文献 | 第73-75页 |
第四章 基于双层胶体晶体的表面等离激元晶体的制备及其光学性质研究 | 第75-95页 |
§4.1 引言 | 第75-79页 |
§4.2 基于双层胶体晶体的表面等离激元晶体的制备 | 第79-82页 |
§4.2.1 双层胶体晶体模板的制备 | 第79-80页 |
§4.2.2 表面等离激元晶体的制备 | 第80-82页 |
§4.3 基于双层胶体晶体的表面等离激元晶体的光学性质的研究 | 第82-92页 |
§4.3.1 基于双层胶体晶体模板的PCs的异常增强透射现象 | 第82-84页 |
§4.3.2 不同介质微球对光学性质的影响 | 第84-87页 |
§4.3.3 系统中纳米金属"岛"有序阵列对光学性质的影响 | 第87-89页 |
§4.3.4 表面等离激元由局域态向扩展态的转变 | 第89-92页 |
§4.4 本章小结 | 第92-93页 |
参考文献 | 第93-95页 |
第五章 基于胶体晶体模板的金属纳米球壳阵列光学透射性质的研究 | 第95-120页 |
§5.1 引言 | 第95-98页 |
§5.2 单个金属纳米球壳及其阵列中光学共振的理论研究 | 第98-103页 |
§5.2.1 单个金属纳米球壳中腔模共振 | 第98-100页 |
§5.2.2 二维六角密堆金属纳米球壳阵列中的腔模共振现象 | 第100-103页 |
§5.3 金属纳米球壳阵列中光学透射性质的实验研究 | 第103-115页 |
§5.3.1 金属纳米球壳阵列的制备 | 第104-106页 |
§5.3.2 金属纳米球壳阵列中光学透射共振的调控 | 第106-112页 |
§5.3.3 金属纳米球壳阵列中的光学透射共振的色散研究 | 第112-115页 |
§5.4 本章小结 | 第115-116页 |
参考文献 | 第116-120页 |
第六章 总结与展望 | 第120-123页 |
·总结 | 第120-121页 |
·今后工作的展望 | 第121-123页 |
攻读博士学位期间发表的论文和申请的专利 | 第123-125页 |
致谢 | 第125-127页 |