摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-20页 |
1.1 引言 | 第11-12页 |
1.2 石墨烯和氧化石墨烯的研究概况 | 第12-13页 |
1.3 半导体量子点的研究概况 | 第13-15页 |
1.4 本论文的选题依据和研究内容 | 第15-16页 |
参考文献 | 第16-20页 |
第二章 三阶非线性光学测量 | 第20-29页 |
2.1 三阶非线性光学 | 第20-21页 |
2.2 非线性测量的方法 | 第21-22页 |
2.3 Z-扫描技术 | 第22-26页 |
2.3.1 Z-扫描技术的原理 | 第22-24页 |
2.3.2 Z-扫描技术理论计算 | 第24-26页 |
2.4 本章小结 | 第26-27页 |
参考文献 | 第27-29页 |
第三章 ZnSe与石墨烯复合材料的三阶非线性光学性质 | 第29-46页 |
3.1 引言 | 第29-30页 |
3.2 实验部分 | 第30-32页 |
3.2.1 实验药品与设备 | 第30页 |
3.2.2 测试仪器 | 第30-31页 |
3.2.3 氧化石墨烯的制备 | 第31页 |
3.2.4 ZnSe与石墨烯复合材料的制备 | 第31-32页 |
3.2.5 不同尺寸和形貌的复合材料的制备 | 第32页 |
3.3 样品表征 | 第32-37页 |
3.3.1 ZnSe与石墨烯复合材料的表征 | 第32-34页 |
3.3.2 不同尺寸和形貌的复合材料的表征 | 第34-37页 |
3.4 ZnSe与石墨烯复合材料的Z-扫描测试结果分析 | 第37-40页 |
3.5 不同尺寸和形貌的复合材料的Z-扫描测试结果分析 | 第40-41页 |
3.6 本章小结 | 第41-42页 |
参考文献 | 第42-46页 |
第四章 Bi_2Se_3与石墨烯复合材料的非线性光学性质 | 第46-55页 |
4.1 引言 | 第46-47页 |
4.2 实验部分 | 第47-48页 |
4.2.1 实验药品与设备 | 第47页 |
4.2.2 Bi_2Se_3与石墨烯复合材料的制备 | 第47-48页 |
4.3 测试与表征 | 第48-51页 |
4.4 Bi_2Se_3与石墨烯复合材料Z-扫描测试结果分析 | 第51-52页 |
4.5 本章小结 | 第52-53页 |
参考文献 | 第53-55页 |
第五章 总结与展望 | 第55-57页 |
5.1 总结 | 第55-56页 |
5.2 展望 | 第56-57页 |
致谢 | 第57-59页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第59-60页 |