摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-8页 |
主要符号表 | 第21-22页 |
1 绪论 | 第22-49页 |
1.1 MOFs材料的发展概况 | 第23-29页 |
1.2 MOFs膜制备的研究进展 | 第29-43页 |
1.2.1 原位晶化法 | 第29-31页 |
1.2.2 晶种生长法 | 第31-36页 |
1.2.3 载体表面化学修饰法 | 第36-38页 |
1.2.4 同源金属诱导法 | 第38-42页 |
1.2.5 其他合成方法 | 第42-43页 |
1.3 MOFs膜在液体分离领域的应用 | 第43-47页 |
1.3.1 MOFs膜在渗透蒸发领域的应用 | 第44-46页 |
1.3.2 MOFs膜在反渗透领域的应用 | 第46-47页 |
1.4 本文主要研究思路 | 第47-49页 |
2 实验部分 | 第49-57页 |
2.1 实验原料 | 第49-51页 |
2.2 载体预处理与膜的制备 | 第51页 |
2.3 样品的表征 | 第51-52页 |
2.3.1 X射线粉末衍射(XRD) | 第51页 |
2.3.2 扫描电镜(SEM)和能量色散X射线光谱(EDX) | 第51-52页 |
2.3.3 傅立叶红外光谱(FT-IR) | 第52页 |
2.3.4 氮气吸附-脱附试验 | 第52页 |
2.3.5 接触角测试 | 第52页 |
2.3.6 紫外-可见分光谱图(UV-Vis) | 第52页 |
2.4 膜渗透分离性能评价 | 第52-57页 |
2.4.1 单组份气体渗透性能测试 | 第52-53页 |
2.4.2 渗透蒸发分离性能测试 | 第53-55页 |
2.4.3 纳滤性能测试 | 第55-57页 |
3 晶种生长法制备UiO-66膜及其渗透蒸发分离甲醇/甲基叔丁基醚混合物性能 | 第57-82页 |
3.1 引言 | 第57-58页 |
3.2 实验部分 | 第58-60页 |
3.2.1 UiO-66晶种的制备 | 第58-59页 |
3.2.2 晶种层的引入及UiO-66膜的合成 | 第59页 |
3.2.3 UiO-66膜渗透性能测试 | 第59-60页 |
3.3 结果与讨论 | 第60-81页 |
3.3.1 UiO-66晶种的制备 | 第60-62页 |
3.3.2 UiO-66晶种的XRD和FT-IR表征 | 第62页 |
3.3.3 载体上晶种层的引入 | 第62-63页 |
3.3.4 UiO-66膜的制备 | 第63-65页 |
3.3.5 水和乙酸对UiO-66膜形成的影响 | 第65-70页 |
3.3.6 UiO-66膜的单组份气体渗透性能 | 第70-71页 |
3.3.7 UiO-66膜渗透蒸发性能 | 第71-79页 |
3.3.8 晶种生长法制备UiO-66-NH_2膜及渗透分离性能 | 第79-81页 |
3.4 本章小结 | 第81-82页 |
4 ZrO_2诱导制备UiO-66-NH_2膜及其渗透蒸发模拟汽油脱硫性能 | 第82-109页 |
4.1 引言 | 第82-83页 |
4.2 实验部分 | 第83-84页 |
4.2.1 ZrO_2溶胶的配制 | 第83页 |
4.2.2 载体表面引入ZrO_2粒子层 | 第83页 |
4.2.3 UiO-66-NH_2膜的合成 | 第83-84页 |
4.2.4 UiO-66-NH_2膜渗透性能测试 | 第84页 |
4.3 结果与讨论 | 第84-107页 |
4.3.1 ZrO_2粒子相态的变化及其对UiO-66-NH_2膜形成的影响 | 第84-88页 |
4.3.2 ZrO_2粒子层诱导制备UiO-66-NH_2膜 | 第88-91页 |
4.3.3 ZrO_2粒子层在UiO-66-NH_2膜形成中的作用 | 第91-93页 |
4.3.4 UiO-66-NH_2膜单组份气体渗透性能 | 第93-94页 |
4.3.5 UiO-66-NH_2膜渗透蒸发脱硫性能 | 第94-101页 |
4.3.6 ZrO_2诱导制备其他UiO-66系列膜及其脱硫性能 | 第101-107页 |
4.4 本章小结 | 第107-109页 |
5 流动法制备UiO-66膜及其纳滤脱除水中对硝基苯酚性能 | 第109-121页 |
5.1 引言 | 第109页 |
5.2 实验部分 | 第109-110页 |
5.2.1 流动法制备UiO-66膜及其后修饰 | 第109-110页 |
5.2.2 UiO-66膜的渗透性能测试 | 第110页 |
5.3 实验结果与讨论 | 第110-119页 |
5.3.1 UiO-66膜的制备 | 第110-113页 |
5.3.2 合成时间和流速对UiO-66膜形成的影响 | 第113-116页 |
5.3.3 UiO-66膜渗透性能 | 第116页 |
5.3.4 后修饰对UiO-66膜性能的影响 | 第116-118页 |
5.3.5 操作条件对P-UiO-66膜分离性能的影响 | 第118页 |
5.3.6 P-UiO-66膜的稳定性 | 第118-119页 |
5.4 本章小结 | 第119-121页 |
6 结论与展望 | 第121-123页 |
6.1 结论 | 第121-122页 |
6.2 创新点 | 第122页 |
6.3 展望 | 第122-123页 |
参考文献 | 第123-137页 |
作者简介 | 第137页 |
攻读博士学位期间科研项目及科研成果 | 第137-139页 |
致谢 | 第139页 |