| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-17页 |
| 1.1 引言 | 第8-9页 |
| 1.2 表面等离子体概述 | 第9-11页 |
| 1.2.1 表面等离子体光学的发展历史 | 第9-10页 |
| 1.2.2 表面等离子体基本性质介绍 | 第10页 |
| 1.2.3 表面等离子体的应用 | 第10-11页 |
| 1.3 太赫兹概述 | 第11-14页 |
| 1.3.1 太赫兹简介 | 第11-12页 |
| 1.3.2 太赫兹的性质 | 第12-13页 |
| 1.3.3 太赫兹的应用 | 第13-14页 |
| 1.4 太赫兹频段下的表面等离子体波的研究现状 | 第14-15页 |
| 1.5 论文主要内容及结构安排 | 第15-17页 |
| 第二章 太赫兹表面等离子体波光强调制系统的理论研究 | 第17-33页 |
| 2.1 太赫兹表面等离子体波光强调制系统 | 第17-18页 |
| 2.2 半导体材料的选择 | 第18-21页 |
| 2.3 表面等离子体波在半导体表面的传输特性 | 第21-24页 |
| 2.3.1 表面等离子体的色散关系 | 第21-23页 |
| 2.3.2 表面等离子体的特征长度 | 第23-24页 |
| 2.3.3 表面等离子体的传播速度 | 第24页 |
| 2.4 锑化铟-空气界面的太赫兹表面等离子体波数值计算 | 第24-29页 |
| 2.4.1 锑化铟在太赫兹频段的介电常数 | 第24-26页 |
| 2.4.2 锑化铟-空气界面的表面等离子体波的特征长度 | 第26-27页 |
| 2.4.3 锑化铟-空气界面的表面等离子体波的传播速度 | 第27-29页 |
| 2.5 锑化铟在光调制下的等离子体频率计算 | 第29-32页 |
| 2.6 本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 太赫兹表面等离子体波光强调制系统的仿真研究 | 第33-45页 |
| 3.1 有限元法简介 | 第33-34页 |
| 3.2 太赫兹表面等离子体波光强调制系统的建模过程 | 第34-38页 |
| 3.3 刀片与半导体之间的间隙大小对太赫兹表面等离子体波耦合效率的影响 | 第38-40页 |
| 3.4 入射光角度对太赫兹表面等离子体波耦合效率的影响 | 第40-42页 |
| 3.5 太赫兹表面等离子体波光强调制的仿真研究 | 第42-43页 |
| 3.6 本章小结 | 第43-45页 |
| 第四章 太赫兹表面等离子体波光强调制系统的实验研究 | 第45-55页 |
| 4.1 太赫兹时域光谱技术概述 | 第45-46页 |
| 4.2 实验系统 | 第46-48页 |
| 4.3 太赫兹透射谱的测量及频谱改进 | 第48-50页 |
| 4.3.1 太赫兹透射谱的测量 | 第48-49页 |
| 4.3.2 参数设置对太赫兹频谱测量的影响 | 第49-50页 |
| 4.4 太赫兹表面等离子体波光强调制系统的搭建 | 第50-52页 |
| 4.5 太赫兹表面等离子体波的光强调制和结果分析 | 第52-54页 |
| 4.6 本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 总结与展望 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-60页 |
| 附录1 攻读硕士学位期间撰写的论文 | 第60-61页 |
| 附录2 攻读硕士学位期间申请的专利 | 第61-62页 |
| 附录3 攻读硕士学位期间参加的科研项目 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
