| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-17页 |
| 1.1 研究背景 | 第11页 |
| 1.2 电容器概述 | 第11-12页 |
| 1.3 高储能密度电容器的应用 | 第12-13页 |
| 1.4 PVDF基复合材料的研究进展 | 第13-15页 |
| 1.5 本论文研究意义和研究内容 | 第15-16页 |
| 1.6 论文结构体系 | 第16-17页 |
| 第二章 电介质材料的击穿理论和测试表征方法 | 第17-30页 |
| 2.1 介质材料的储能机理 | 第17-19页 |
| 2.2 固体击穿理论概述 | 第19-25页 |
| 2.2.1 热击穿 | 第19-20页 |
| 2.2.2 电击穿 | 第20-21页 |
| 2.2.3 局部放电击穿 | 第21-24页 |
| 2.2.4 聚合物的特殊击穿 | 第24-25页 |
| 2.3 聚偏氟乙烯的介绍 | 第25-26页 |
| 2.4 薄膜制备方法 | 第26-27页 |
| 2.5 样品膜性能测试和表征方法 | 第27-30页 |
| 2.5.1 性能测试 | 第27页 |
| 2.5.1.1 介电性能测试 | 第27页 |
| 2.5.1.2 耐压性能测试 | 第27页 |
| 2.5.2 表征方法 | 第27-30页 |
| 2.5.2.1 扫描电子显微镜 | 第27-28页 |
| 2.5.2.2 X射线衍射 | 第28页 |
| 2.5.2.3 傅里叶红外光谱图 | 第28页 |
| 2.5.2.4 差示扫描量热法 | 第28-30页 |
| 第三章 不同晶型聚偏氟乙烯薄膜的制备及其介电击穿特性研究 | 第30-51页 |
| 3.1 实验材料及测试仪器 | 第30-31页 |
| 3.2 PVDF薄膜电容器制备过程 | 第31-32页 |
| 3.2.1 实验前准备 | 第31页 |
| 3.2.2 配制PVDF溶液 | 第31页 |
| 3.2.3 制备薄膜 | 第31-32页 |
| 3.2.4 膜退火处理 | 第32页 |
| 3.3 蒸镀电极 | 第32-33页 |
| 3.4 b 晶型和a 晶型PVDF薄膜的制备 | 第33-43页 |
| 3.4.1 性能测试 | 第34-37页 |
| 3.4.1.1 介电性能测试 | 第34-37页 |
| 3.4.1.2 耐压性能测试 | 第37页 |
| 3.4.2 薄膜表征 | 第37-43页 |
| 3.4.2.1 扫描电子显微镜 | 第37-40页 |
| 3.4.2.2 X射线衍射 | 第40-41页 |
| 3.4.2.3 傅里叶红外吸收图 | 第41-42页 |
| 3.4.2.4 差示扫描量热法 | 第42-43页 |
| 3.5 c 晶型PVDF薄膜的制备 | 第43-50页 |
| 3.5.1 性能测试 | 第44-46页 |
| 3.5.1.1 介电性能测试 | 第44-45页 |
| 3.5.1.2 耐压性能测试 | 第45-46页 |
| 3.5.2 薄膜表征 | 第46-50页 |
| 3.5.2.1 扫描电子显微镜 | 第46-47页 |
| 3.5.2.2 X射线衍射 | 第47-48页 |
| 3.5.2.3 傅里叶红外吸收图 | 第48-49页 |
| 3.5.2.4 扫描差示量热法 | 第49-50页 |
| 3.6 本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 PVDF/PMMA复合薄膜的制备及其介电击穿特性研究 | 第51-60页 |
| 4.1 PVDF/PMMA复合薄膜的制备 | 第51-52页 |
| 4.2 性能测试 | 第52-55页 |
| 4.2.1 介电性能测试 | 第52-54页 |
| 4.2.2 耐压性能测试 | 第54-55页 |
| 4.3 薄膜表征 | 第55-58页 |
| 4.3.1 扫描电子显微镜 | 第55-56页 |
| 4.3.2 X射线衍射 | 第56-57页 |
| 4.3.3 傅里叶红外吸收图谱 | 第57-58页 |
| 4.3.4 差示扫描量热法 | 第58页 |
| 4.4 本章小结 | 第58-60页 |
| 第五章 全文工作总结和展望 | 第60-62页 |
| 5.1 工作总结 | 第60页 |
| 5.2 展望 | 第60-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第68-69页 |