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硅、碳、氮化硼和硫化铁等材料同素异构体的微观设计

摘要第4-7页
Abstract第7-9页
目录第10-12页
第一章 绪论第12-44页
    第一节 新型硅,碳及其低维材料的概况第12-21页
        1.1 纯碳材料及其低维结构第12-19页
        1.2 纯硅材料及其低维结构第19-21页
    第二节 理论基础第21-44页
        2.1 薛定谔方程第21-24页
        2.2 绝热近似第24-25页
        2.3 Hartree-Fock 近似第25-27页
        2.4 密度泛函理论与Hohenberg-Kohn定理第27-29页
        2.5 Kohn-Sham 方程第29-31页
        2.6 交换关联能量泛函第31-34页
        2.7 能带理论第34-37页
        2.8 声子谱计算第37-38页
        2.9 计算所用的程序包第38页
        参考文献第38-44页
第二章 NTC-硅:一种带有直接带隙的硅的同素异构体第44-55页
    第一节 背景介绍第44页
    第二节 计算方法第44-46页
    第三节 结果和讨论第46-52页
        3.1 晶体结构与稳定性第46-50页
        3.2 电子与光学特性第50-51页
        3.3 对ntc-硅合成有利的条件第51-52页
    第四节 小结第52-53页
    参考文献第53-55页
第三章 PO型单层石墨:一种由五、八边形组成的可能存在的石墨烯结构第55-65页
    第一节 背景介绍第55-57页
    第二节 计算方法第57页
    第三节 结果和讨论第57-61页
    第四节 合成第61-62页
    第五节 小结第62页
    参考文献第62-65页
第四章 稳定的五边形材料和可能存在自旋极化狄拉克锥的二维Fe_2S化合物第65-83页
    第一节 背景介绍第65-66页
    第二节 计算方法第66-70页
    第三节 pt-C和pt-BN_2的能带结构第70-73页
    第四节 在pt-Fe_2S中的能带结构和电子-电子相互作用第73-77页
    第五节 合成第77-78页
    第六节 小结第78-79页
    参考文献第79-83页
第五章 总结和展望第83-85页
论文发表情况第85-87页
致谢第87-88页

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