MEMS微型气体富集器的工艺制备研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 课题背景 | 第10-11页 |
| 1.2 MEMS的应用和主要技术 | 第11-13页 |
| 1.2.1 MEMS的应用 | 第11-12页 |
| 1.2.2 MEMS的主要技术 | 第12-13页 |
| 1.3 气体富集器的研究现状及发展趋势 | 第13-17页 |
| 1.3.1 平面结构 | 第14-15页 |
| 1.3.2 三维结构 | 第15-17页 |
| 1.4 论文主要内容 | 第17-19页 |
| 第二章 富集器的基本原理和影响因素 | 第19-28页 |
| 2.1 富集器的工作原理 | 第19页 |
| 2.2 气体吸附 | 第19-21页 |
| 2.2.1 气体吸附的两种形式 | 第19-20页 |
| 2.2.2 气体吸附的影响因素 | 第20-21页 |
| 2.3 富集器的性能参数及其影响因素 | 第21-25页 |
| 2.3.1 吸附材料 | 第21-22页 |
| 2.3.2 气流速度 | 第22-24页 |
| 2.3.3 富集时间 | 第24页 |
| 2.3.4 升温速率 | 第24-25页 |
| 2.4 富集器的相关技术 | 第25-27页 |
| 2.4.1 相控加热技术 | 第25-26页 |
| 2.4.2 微阀集成技术 | 第26-27页 |
| 2.5 本章小结 | 第27-28页 |
| 第三章 十字柱阵列结构的MEMS富集器设计和制备 | 第28-49页 |
| 3.1 十字柱阵列结构MEMS富集器的结构设计 | 第28-31页 |
| 3.2 十字柱阵列结构MEMS富集器的制备流程 | 第31-33页 |
| 3.3 干法刻蚀工艺制备十字柱阵列 | 第33-38页 |
| 3.3.1 干法刻蚀的主要技术 | 第33-36页 |
| 3.3.2 干法刻蚀效果 | 第36-38页 |
| 3.4 键合工艺制备玻璃盖 | 第38-40页 |
| 3.5 Pt薄膜加热丝的制备 | 第40-47页 |
| 3.5.1 光刻工艺 | 第40-41页 |
| 3.5.2 剥离工艺 | 第41-43页 |
| 3.5.3 磁控溅射制备Pt金属薄膜 | 第43-44页 |
| 3.5.4 Pt薄膜加热丝的制备和退火处理 | 第44-47页 |
| 3.6 本章小结 | 第47-49页 |
| 第四章 十字柱阵列结构MEMS富集器的性能测试 | 第49-64页 |
| 4.1 测试实验平台 | 第49-52页 |
| 4.1.1 FID测试原理 | 第49-50页 |
| 4.1.2 动态配气法 | 第50-51页 |
| 4.1.3 气泵的控制 | 第51-52页 |
| 4.2 吸附材料的灌注 | 第52-53页 |
| 4.3 测试过程和结果分析 | 第53-63页 |
| 4.3.1 乙醇的富集率测试 | 第54-58页 |
| 4.3.2 丙酮的富集率测试 | 第58-60页 |
| 4.3.3 三氯甲烷的富集率测试 | 第60-61页 |
| 4.3.4 DMMP的富集率测试 | 第61-62页 |
| 4.3.5 富集率测试总结 | 第62-63页 |
| 4.4 本章小结 | 第63-64页 |
| 第五章 总结与展望 | 第64-66页 |
| 5.1 全文总结 | 第64页 |
| 5.2 工作展望 | 第64-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第71-72页 |
