带通滤光片的镀制及抗辐照性能研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-28页 |
| 1.1 课题背景及意义 | 第9页 |
| 1.2 膜系设计基本理论 | 第9-15页 |
| 1.2.1 周期对称膜系等效层理论 | 第9-12页 |
| 1.2.2 干涉截止滤光片基本理论 | 第12-14页 |
| 1.2.3 干涉截止滤光膜优化 | 第14-15页 |
| 1.3 带通滤光片 | 第15-20页 |
| 1.3.1 双截止组合滤光片 | 第16-17页 |
| 1.3.2 法布里-珀珞滤光片 | 第17-18页 |
| 1.3.3 多半波滤光片 | 第18-20页 |
| 1.3.4 诱导透射滤光片 | 第20页 |
| 1.4 光学薄膜淀积技术 | 第20-22页 |
| 1.4.1 真空蒸镀 | 第20-21页 |
| 1.4.2 溅射 | 第21-22页 |
| 1.4.3 离子镀 | 第22页 |
| 1.5 光学薄膜性能 | 第22-24页 |
| 1.5.1 薄膜微观结构特性 | 第22-23页 |
| 1.5.2 薄膜晶体结构 | 第23页 |
| 1.5.3 影响薄膜性能的工艺因素 | 第23-24页 |
| 1.6 光学薄膜带电粒子辐照效应 | 第24-26页 |
| 1.6.1 空间带电粒子环境 | 第24-25页 |
| 1.6.2 辐照效应 | 第25-26页 |
| 1.7 本文主要研究内容 | 第26-28页 |
| 第2章 试验方案及表征手段 | 第28-35页 |
| 2.1 电子束真空镀膜设备 | 第28-32页 |
| 2.1.1 电子束源系统 | 第28-29页 |
| 2.1.2 离子辅助系统 | 第29-30页 |
| 2.1.3 膜厚监控系统 | 第30-31页 |
| 2.1.4 VTE 软件 | 第31-32页 |
| 2.2 薄膜制备 | 第32-33页 |
| 2.2.1 薄膜制备流程 | 第32-33页 |
| 2.2.2 镀膜工艺方案 | 第33页 |
| 2.3 辐照设备 | 第33页 |
| 2.4 光学薄膜性能表征 | 第33-35页 |
| 2.4.1 环境适应性测试 | 第34页 |
| 2.4.2 透过率光谱测量 | 第34页 |
| 2.4.3 XRD | 第34页 |
| 2.4.4 AFM | 第34-35页 |
| 第3章 膜系设计与优化 | 第35-43页 |
| 3.1 膜系设计软件 | 第35-38页 |
| 3.1.1 软件 Materials 模块 | 第36-37页 |
| 3.1.2 软件 Constructor 模块 | 第37-38页 |
| 3.2 膜系设计 | 第38-40页 |
| 3.2.1 设计方案 | 第38页 |
| 3.2.2 选择膜材 | 第38页 |
| 3.2.3 初始膜系结构 | 第38-40页 |
| 3.3 膜系结构优化 | 第40-42页 |
| 3.3.1 短波通滤光膜优化 | 第40页 |
| 3.3.2 长波通滤光膜优化 | 第40-42页 |
| 3.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 第4章 镀膜工艺研究 | 第43-52页 |
| 4.1 沉积温度对单层膜 MgF2的影响 | 第43-47页 |
| 4.2 沉积温度对单层膜 ZnS 的影响 | 第47-50页 |
| 4.3 本章小结 | 第50-52页 |
| 第5章 带通滤光片抗辐照性能表征 | 第52-58页 |
| 5.1 带通滤光片的镀制 | 第52-54页 |
| 5.2 抗辐照性能评价 | 第54-57页 |
| 5.2.1 辐照方案 | 第54-56页 |
| 5.2.2 性能表征 | 第56-57页 |
| 5.3 本章小结 | 第57-58页 |
| 结论 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
