| 摘要 | 第2-4页 |
| abstract | 第4-5页 |
| 1 绪论 | 第8-19页 |
| 1.1 引言 | 第8页 |
| 1.2 纳米材料 | 第8-10页 |
| 1.2.1 纳米材料的发展 | 第8-9页 |
| 1.2.2 纳米材料的基本效应 | 第9-10页 |
| 1.3 SiC材料 | 第10-15页 |
| 1.3.1 SiC的结构和基本性质 | 第10-11页 |
| 1.3.2 SiC纳米线的制备方法 | 第11-12页 |
| 1.3.3 SiC纳米线的生长机理 | 第12-13页 |
| 1.3.4 SiC纳米线的强化增韧机制 | 第13-14页 |
| 1.3.5 SiC纳米线的研究现状 | 第14-15页 |
| 1.3.6 SiC纳米线的应用 | 第15页 |
| 1.4 SiCNW在ZrB_2/SiC复合陶瓷中的应用 | 第15-17页 |
| 1.4.1 ZrB_2/SiC复合陶瓷 | 第15-16页 |
| 1.4.2 ZrB_2/SiC复合陶瓷的制备方法 | 第16-17页 |
| 1.5 本文的研究目的与研究内容 | 第17-19页 |
| 1.5.1 本文的研究目的 | 第17-18页 |
| 1.5.2 本文的主要研究内容 | 第18-19页 |
| 2 实验和研究方法 | 第19-25页 |
| 2.1 实验所用原料 | 第19页 |
| 2.1.1 SiC纳米线制备的实验原料 | 第19页 |
| 2.1.2 ZrB_2/SiC复合陶瓷制备的实验原料 | 第19页 |
| 2.2 实验设备 | 第19-20页 |
| 2.3 SiC纳米线的制备 | 第20-21页 |
| 2.3.1 SiC纳米线的制备流程图 | 第20-21页 |
| 2.3.2 聚合物前驱体热解法制备SiC纳米线 | 第21页 |
| 2.3.3 混合浸渍液法制备SiC纳米线 | 第21页 |
| 2.4 ZrB_2/SiC复合陶瓷的制备 | 第21-22页 |
| 2.5 材料的分析测试方法 | 第22-25页 |
| 2.5.1 SiCNW和ZrB_2/SiC复合陶瓷的微观结构形貌表征 | 第22-23页 |
| 2.5.2 ZrB_2/SiC复合陶瓷的性能测试 | 第23-25页 |
| 3 聚合物前驱体热解法制备SiC纳米线研究 | 第25-34页 |
| 3.1 工艺规律研究 | 第25-29页 |
| 3.1.1 生长温度的影响 | 第25-27页 |
| 3.1.2 催化剂加载量的影响 | 第27-28页 |
| 3.1.3 活性炭的影响 | 第28-29页 |
| 3.2 SiC纳米线微观结构形貌表征 | 第29-31页 |
| 3.3 SiCNW生长机理分析 | 第31-33页 |
| 3.3.1 PCS的热解过程 | 第31-32页 |
| 3.3.2 SiC纳米线的生长过程 | 第32-33页 |
| 3.4 本章小结 | 第33-34页 |
| 4 混合浸渍液法制备SiC纳米线研究 | 第34-44页 |
| 4.1 工艺规律研究 | 第34-39页 |
| 4.1.1 基底材料的影响 | 第34-35页 |
| 4.1.2 生长温度的影响 | 第35-37页 |
| 4.1.3 催化剂加载量的影响 | 第37-39页 |
| 4.2 SiC纳米线结构形貌表征及光学特性 | 第39-42页 |
| 4.2.1 SiC纳米线结构形貌表征 | 第39-42页 |
| 4.2.2 SiC纳米线的光致发光特性 | 第42页 |
| 4.3 SiCNW生长机理分析 | 第42-43页 |
| 4.4 本章小结 | 第43-44页 |
| 5 SiC纳米线增韧陶瓷研究 | 第44-52页 |
| 5.1 ZrB_2/SiC复合陶瓷的烧结致密化 | 第44-45页 |
| 5.2 ZrB_2/SiC复相陶瓷的相组成与微观形貌 | 第45-47页 |
| 5.2.1 相组成 | 第45页 |
| 5.2.2 微观形貌 | 第45-46页 |
| 5.2.3 断口形貌 | 第46-47页 |
| 5.3 ZrB_2/SiC复合陶瓷的力学性能 | 第47-48页 |
| 5.4 ZrB_2/SiC复合陶瓷的高温抗氧化性能 | 第48-51页 |
| 5.4.1 增重程度 | 第48-49页 |
| 5.4.2 氧化后试样微观形貌分析 | 第49-51页 |
| 5.5 本章小结 | 第51-52页 |
| 6 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-59页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-62页 |
