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耦合Ge/Si量子点空穴态特性研究

摘要第3-5页
Abstract第5-6页
第一章 绪论第9-19页
    1.1 引言第9页
    1.2 Ge/Si量子点生长研究第9-11页
    1.3 Ge/Si量子点的电学性能研究第11-12页
    1.4 研究耦合Ge/Si量子点空穴态的意义第12-13页
    1.5 计算材料学常用的几种建模方法第13-17页
        1.5.1 第一性原理法(FP法)第13-14页
        1.5.2 蒙特—卡罗法(MC法)第14-15页
        1.5.3 有限元法(FEM法)第15-16页
        1.5.4 分子动力学法(MD法)第16-17页
    1.6 本论文的研究意义及主要内容第17-19页
第二章 计算模型和方法第19-28页
    2.1 引言第19页
    2.2 模型所参照的耦合体系第19-20页
    2.3 计算条件和方法第20-21页
    2.4 计算模型和原理第21-25页
        2.4.1 单带模型原理第21-23页
        2.4.2 边界条件第23页
        2.4.3 网格第23-24页
        2.4.4 六带模型原理和网格第24-25页
    2.5 六带模型的网格和边界条件第25-27页
    2.6 计算模型的可靠性第27-28页
第三章 耦合Ge/Si量子点中空穴态对称性研究第28-37页
    3.1 引言第28页
    3.2 Ge/Si量子点空穴态对称特性研究第28-29页
    3.3 实验设计第29-30页
    3.4 实验结果与讨论第30-35页
    3.5 结论第35-37页
第四章 耦合Ge/Si量子点空穴态从弱局域态到强局域态的转变第37-45页
    4.1 引言第37页
    4.2 Ge/Si量子点结构的空穴局域态研究第37-38页
    4.3 实验设计和内容第38-39页
    4.4 结果与讨论第39-44页
    4.5 结论第44-45页
第五章 耦合Ge/Si量子点中间带太阳电池第45-61页
    5.1 引言第45页
    5.2 量子点中间带太阳电池概念第45-47页
    5.3 计算的实验依据和设计第47-49页
    5.4 实验结果分析与讨论第49-59页
        5.4.1 单层量子点第49-53页
        5.4.2 双层量子点第53-58页
        5.4.3 多层量子点第58-59页
    5.5 结论第59-61页
第六章 总结和展望第61-63页
    6.1 工作总结第61-62页
    6.2 本论文工作的特色第62页
    6.3 未来展望第62-63页
参考文献第63-74页
附录一第74-75页
致谢第75页

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