摘要 | 第10-12页 |
Abstract | 第12-13页 |
第一章 绪论 | 第14-29页 |
1.1 引言 | 第14-15页 |
1.2 VOCs的治理 | 第15-21页 |
1.2.1 VOCs概述 | 第15-16页 |
1.2.2 VOCs污染控制技术 | 第16-21页 |
1.2.2.1 吸附法 | 第16页 |
1.2.2.2 吸收法 | 第16-17页 |
1.2.2.3 冷凝法 | 第17页 |
1.2.2.4 膜分离法 | 第17页 |
1.2.2.5 燃烧法 | 第17-19页 |
1.2.2.6 生物降解法 | 第19-20页 |
1.2.2.7 高压脉冲电晕法 | 第20-21页 |
1.2.3 小结 | 第21页 |
1.3 光催化氧化技术 | 第21-26页 |
1.3.1 光催化技术降解的机理 | 第21-22页 |
1.3.2 光催化技术的研究进展 | 第22-24页 |
1.3.3 提高TiO_2光催化活性的研究 | 第24-26页 |
1.3.3.1 尺寸调变 | 第24页 |
1.3.3.2 金属掺杂 | 第24-25页 |
1.3.3.3 半导体复合 | 第25-26页 |
1.3.3.4 贵金属沉积 | 第26页 |
1.4 GO与TiO_2复合的研究 | 第26-27页 |
1.5 研究目的、主要研究内容、论文创新点 | 第27-29页 |
1.5.1 研究目的 | 第27页 |
1.5.2 主要研究内容 | 第27页 |
1.5.3 论文创新点 | 第27-29页 |
第二章 实验仪器与表征方法 | 第29-36页 |
2.1 实验试剂 | 第29页 |
2.2 实验仪器 | 第29-30页 |
2.3 大型表征仪器 | 第30-36页 |
2.3.1 X射线粉末衍射仪(XRD) | 第30-31页 |
2.3.2 扫描电子显微镜-X射线能谱分析(SEM-EDS) | 第31-32页 |
2.3.3 高分辨透射电子显微镜(HRTEM) | 第32-33页 |
2.3.4 傅里叶变换红外光谱仪(FTIR) | 第33页 |
2.3.5 拉曼光谱仪(Raman) | 第33-34页 |
2.3.6 X射线光电子能谱仪(XPS) | 第34-36页 |
第三章 GO修饰的TiO_2光催化剂的制备与表征 | 第36-50页 |
3.1 引言 | 第36-37页 |
3.2 实验内容 | 第37-39页 |
3.2.1 氧化石墨烯的制备 | 第37页 |
3.2.2 水滑石/氧化石墨烯(LDH/GO)的制备 | 第37-38页 |
3.2.3 二氧化钛@氧化石墨烯(TiO_2@GO)的制备 | 第38页 |
3.2.4 二氧化钛@水滑石/氧化石墨烯(TiO_2@LDH/GO)的制备 | 第38-39页 |
3.3 催化剂的表征 | 第39-48页 |
3.3.1 XRD图像分析 | 第39-40页 |
3.3.2 SEM及EDS图像分析 | 第40-43页 |
3.3.3 HRTEM图像分析 | 第43-44页 |
3.3.4 FT-IR光谱分析 | 第44-45页 |
3.3.5 Raman光谱分析 | 第45-46页 |
3.3.6 XPS图像分析 | 第46-48页 |
3.4 本章小结 | 第48-50页 |
第四章 光催化降解实验 | 第50-66页 |
4.1 引言 | 第50页 |
4.2 甲苯的原位测定法 | 第50-53页 |
4.2.1 理论依据 | 第50-51页 |
4.2.2 甲苯溶液的配置 | 第51页 |
4.2.3 密封性实验 | 第51-52页 |
4.2.4 标准曲线的绘制 | 第52页 |
4.2.5 精密度与稳定性实验 | 第52-53页 |
4.3 降解实验 | 第53-54页 |
4.3.1 模拟太阳光下的光降解 | 第53页 |
4.3.2 动力学研究 | 第53-54页 |
4.3.3 重复实验 | 第54页 |
4.4 实验结果与讨论 | 第54-60页 |
4.4.1 光催化降解对比实验 | 第54-55页 |
4.4.2 降解甲苯的动力学研究 | 第55-59页 |
4.4.3 重复实验 | 第59-60页 |
4.5 光催化机理 | 第60-64页 |
4.5.1 引言 | 第60-61页 |
4.5.2 TiO_2@GO的光催化机理 | 第61-62页 |
4.5.3 TiO_2@LDH/GO的光催化机理 | 第62-64页 |
4.6 本章小结 | 第64-66页 |
第五章 结论与展望 | 第66-68页 |
5.1 结论 | 第66-67页 |
5.2 展望 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-77页 |
致谢 | 第77-78页 |
附录 | 第78-79页 |
学位论文评阅及答辩情况表 | 第79页 |