| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 太阳能利用现状 | 第10-11页 |
| 1.2 太阳能选择性吸收涂层吸收机理 | 第11-13页 |
| 1.3 太阳能选择性吸收涂层种类 | 第13-18页 |
| 1.3.1 本征吸收型 | 第13-14页 |
| 1.3.2 干涉吸收型 | 第14-15页 |
| 1.3.3 金属陶瓷复合吸收 | 第15-16页 |
| 1.3.4 表面微不平结构 | 第16页 |
| 1.3.5 表面减反层 | 第16-18页 |
| 1.4 太阳能选择性吸收涂层制备方法 | 第18-20页 |
| 1.4.1 电镀法 | 第18-19页 |
| 1.4.2 电化学转化法 | 第19页 |
| 1.4.3 热喷涂法 | 第19页 |
| 1.4.4 化学气相沉积法(CVD) | 第19页 |
| 1.4.5 物理气相沉积法(PVD) | 第19-20页 |
| 1.5 课题研究的内容及意义 | 第20-22页 |
| 第二章 试验设备及测试手段 | 第22-26页 |
| 2.1 多弧离子镀设备及原理 | 第22页 |
| 2.2 涂层表征方法 | 第22-26页 |
| 2.2.1 扫描电子显微镜(SEM) | 第22-23页 |
| 2.2.2 X射线衍射仪(XRD) | 第23页 |
| 2.2.3 X射线光电子谱仪(XPS) | 第23-24页 |
| 2.2.4 紫外-可见-近红外分光光度计(UV-VIS-NIR) | 第24页 |
| 2.2.5 红外光谱仪 | 第24-26页 |
| 第三章 工艺试验及参数优化 | 第26-34页 |
| 3.1 正交试验设计 | 第26-29页 |
| 3.1.1 基片制备 | 第27页 |
| 3.1.2 靶材表面清洗 | 第27页 |
| 3.1.3 原材料 | 第27页 |
| 3.1.4 正交试验法制定薄膜沉积参数 | 第27-29页 |
| 3.2 正交试验结果分析 | 第29-32页 |
| 3.3 本章小结 | 第32-34页 |
| 第四章 SS/AlCrN基太阳能选择性吸收涂层制备及光学性能分析 | 第34-42页 |
| 4.1 涂层的制备 | 第34页 |
| 4.2 涂层的微观形貌分析 | 第34-38页 |
| 4.3 涂层的物相分析 | 第38-39页 |
| 4.4 涂层的光学性能分析 | 第39-40页 |
| 4.5 本章小结 | 第40-42页 |
| 第五章 SS/AlCrN/Al_2O_3太阳能选择性吸收涂层制备及光学性能分析 | 第42-54页 |
| 5.1 涂层的制备 | 第42页 |
| 5.2 涂层的微观形貌分析 | 第42-48页 |
| 5.3 涂层的物相分析 | 第48-53页 |
| 5.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 第六章 结论与展望 | 第54-56页 |
| 6.1 本文结论 | 第54页 |
| 6.2 不足与展望 | 第54-56页 |
| 6.2.1 不足 | 第54-55页 |
| 6.2.2 未来展望 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-62页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文和参加科研情况 | 第62-64页 |
| 致谢 | 第64页 |
