| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 硅薄膜太阳电池的发展趋势及研究现状 | 第10-24页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·太阳电池的发展趋势 | 第11-12页 |
| ·非晶硅电池 | 第12-13页 |
| ·硅基薄膜叠层太阳电池 | 第13-17页 |
| ·微晶硅薄膜电池 | 第15-16页 |
| ·纳米硅电池 | 第16-17页 |
| ·太阳电池工作原理和性能参数 | 第17-20页 |
| ·太阳电池工作原理 | 第17-19页 |
| ·太阳电池的性能参数 | 第19-20页 |
| ·本论文的主要内容和研究思路 | 第20-22页 |
| 参考文献 | 第22-24页 |
| 第二章 硅基薄膜制备所用沉积系统及其特性表征 | 第24-32页 |
| ·硅基薄膜制备的理论和沉积系统的介绍 | 第24-26页 |
| ·硅基薄膜制备的理论 | 第24-25页 |
| ·等离子增强化学气相沉积系统 | 第25-26页 |
| ·实验中使用材料和实验流程的介绍 | 第26-27页 |
| ·实验中使用的材料 | 第26页 |
| ·实验过程 | 第26-27页 |
| ·非晶硅材料和电池的测试方法 | 第27-29页 |
| ·拉曼光谱(Raman) | 第27-28页 |
| ·硅薄膜的透射谱的测试 | 第28-29页 |
| ·傅立叶变换红外吸收谱(简称 FTIR） | 第29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 参考文献 | 第30-32页 |
| 第三章 非晶硅薄膜电池的制备和研究 | 第32-54页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·硅薄膜性能的研究 | 第32-40页 |
| ·硅薄膜的正交试验 | 第32-34页 |
| ·对硅薄膜材料的光学带隙的研究 | 第34-38页 |
| ·硅薄膜沉积速率的研究 | 第38-40页 |
| ·非晶硅电池的制备和研究 | 第40-51页 |
| ·电池本征层的氢稀释比优化 | 第41页 |
| ·P 层沉积压强的优化 | 第41-45页 |
| ·P 层沉积温度的优化 | 第45-48页 |
| ·非晶硅电池 P\I 界面和 I\N 界面的优化 | 第48-50页 |
| ·典型的非晶硅电池 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-54页 |
| 第四章 微晶硅薄膜太阳电池的数值分析 | 第54-64页 |
| ·模拟软件原理介绍和使用说明 | 第54-55页 |
| ·模拟软件原理介绍[1] | 第54-55页 |
| ·模拟软件使用说明 | 第55页 |
| ·微晶硅电池的数值分析 | 第55-61页 |
| ·微晶硅电池模拟参数的设置 | 第55-57页 |
| ·窗口层厚度和前端接触势垒对内建电场的影响 | 第57-58页 |
| ·P 层厚度、掺杂浓度、间隙态和前端接触势垒对 P 层势垒的影响 | 第58-59页 |
| ·微晶硅电池性能分析 | 第59-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-64页 |
| 第五章 结论与展望 | 第64-66页 |
| ·实验结论 | 第64-65页 |
| ·非晶硅材料和电池制备及研究 | 第64页 |
| ·硅薄膜电池的数值分析 | 第64-65页 |
| ·展望 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 硕士期间完成的论文 | 第67-68页 |