| 目录 | 第3-5页 |
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 锂离子电池的发展、原理及特点 | 第10-14页 |
| 1.2.1 锂离子电池的发展 | 第10-11页 |
| 1.2.2 锂离子电池的工作原理 | 第11-12页 |
| 1.2.3 锂离子电池的特点 | 第12-14页 |
| 1.3 锂离子电池材料的研究进展 | 第14-17页 |
| 1.3.1 锂离子电池正极材料 | 第14-15页 |
| 1.3.2 锂离子电池负极材料 | 第15-17页 |
| 1.4 提高材料电化学性能的途径 | 第17-18页 |
| 1.4.1 材料薄膜化 | 第17页 |
| 1.4.2 材料纳米化 | 第17-18页 |
| 1.4.3 掺杂或制备复合材料 | 第18页 |
| 1.5 本文的研究内容和意义 | 第18-19页 |
| 本章参考文献 | 第19-23页 |
| 第二章 样品制备及测试方法 | 第23-36页 |
| 2.1 脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition,PLD)技术 | 第23-26页 |
| 2.1.1 脉冲激光沉积技术的基本原理 | 第23-24页 |
| 2.1.2 脉冲激光沉积技术的特点 | 第24-25页 |
| 2.1.3 脉冲激光沉积实验装置 | 第25-26页 |
| 2.2 电池的组装及电化学性能测试方法 | 第26-29页 |
| 2.2.1 电池的组装 | 第26-27页 |
| 2.2.2 恒电流充放电测试 | 第27页 |
| 2.2.3 循环伏安法 | 第27-28页 |
| 2.2.4 交流阻抗法 | 第28-29页 |
| 2.3 薄膜电极的物理表征 | 第29-33页 |
| 2.3.1 质量测定 | 第29页 |
| 2.3.2 薄膜厚度测定 | 第29-30页 |
| 2.3.3 X射线衍射(XRD) | 第30页 |
| 2.3.4 扫描电子显微镜(SEM) | 第30-31页 |
| 2.3.5 透射电子电镜(TEM)和选区电子衍射(SAED) | 第31-33页 |
| 本章参考文献 | 第33-36页 |
| 第三章 脉冲激光沉积NiO-NiS纳米复合薄膜及其性质的研究 | 第36-51页 |
| 3.1 引言 | 第36页 |
| 3.2 脉冲激光沉积技术制备NiO-NiS纳米复合薄膜的实验参数 | 第36-37页 |
| 3.2.1 样品靶材制备 | 第36-37页 |
| 3.2.2 薄膜沉积条件 | 第37页 |
| 3.3 实验结果和讨论 | 第37-48页 |
| 3.4 本章总结 | 第48页 |
| 本章参考文献 | 第48-51页 |
| 第四章 脉冲激光沉积NiO-NiSe纳米复合薄膜及其性质的研究 | 第51-61页 |
| 4.1 引言 | 第51页 |
| 4.2 脉冲激光沉积法制备NiO-NiSe纳米复合薄膜的实验参数 | 第51-52页 |
| 4.2.1 样品靶的制备 | 第51页 |
| 4.2.2 薄膜沉积条件 | 第51-52页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第52-59页 |
| 4.4 本章总结 | 第59页 |
| 本章参考文献 | 第59-61页 |
| 第五章 总结 | 第61-63页 |
| 附录Ⅰ 磁控溅射技术制备Al_2O_3掺杂ZnO薄膜及其储锂性能的研究 | 第63-77页 |
| App.1 引言 | 第63页 |
| App.2 磁控溅射法制备Al_2O_3掺杂ZnO薄膜的实验参数 | 第63-64页 |
| App.2.1 样品靶材制备 | 第63-64页 |
| App.2.2 薄膜沉积条件 | 第64页 |
| App.3 结果和讨论 | 第64-74页 |
| App.4 结论 | 第74-75页 |
| 本章参考文献 | 第75-77页 |
| 攻读硕士期间论文发表和专利申请情况 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
