荷正电微孔陶瓷膜的制备与表征
摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
1 前言 | 第9-21页 |
1.1 研究背景 | 第9-14页 |
1.1.1 陶瓷膜的产生和发展 | 第9-10页 |
1.1.2 陶瓷膜的特点 | 第10页 |
1.1.3 陶瓷膜的分类 | 第10-11页 |
1.1.4 陶瓷膜表面修饰改性研究 | 第11-13页 |
1.1.5 荷电陶瓷膜 | 第13-14页 |
1.2 荷电陶瓷膜的制备方法 | 第14-18页 |
1.2.1 溶胶-凝胶法 | 第14-15页 |
1.2.2 浸渍-烧结法 | 第15页 |
1.2.3 均相沉淀法 | 第15-16页 |
1.2.4 接枝法 | 第16页 |
1.2.5 固态粒子烧结法 | 第16-17页 |
1.2.6 其他制备方法 | 第17-18页 |
1.3 荷电陶瓷膜的性能研究 | 第18-19页 |
1.3.1 分离性能 | 第18-19页 |
1.3.2 抗污染性能 | 第19页 |
1.4 本研究的目的和意义 | 第19-20页 |
1.5 主要研究内容 | 第20-21页 |
2 材料与方法 | 第21-30页 |
2.1 实验所用原料 | 第21页 |
2.2 实验仪器和设备 | 第21-22页 |
2.3 荷正电微孔陶瓷膜的制备 | 第22-24页 |
2.3.1 分散剂法 | 第22-23页 |
2.3.2 强碱沉淀法 | 第23页 |
2.3.3 前驱体转化法 | 第23-24页 |
2.4 荷电膜的表征 | 第24-30页 |
2.4.1 荷电剂性能 | 第24-26页 |
2.4.2 膜组成及结构 | 第26-28页 |
2.4.3 膜表面电性能及过滤性能 | 第28-30页 |
3 结果与讨论 | 第30-61页 |
3.1 荷正电微孔陶瓷膜制备方法的确定 | 第30-44页 |
3.1.1 分散剂法 | 第30-32页 |
3.1.2 强碱沉淀法 | 第32-39页 |
3.1.3 前驱体转化法 | 第39-43页 |
3.1.4 小结 | 第43-44页 |
3.2 荷正电微孔陶瓷膜制备工艺过程研究 | 第44-61页 |
3.2.1 制膜工艺条件优化 | 第44-55页 |
3.2.2 Y_2O_3与基膜结合力分析 | 第55-57页 |
3.2.3 膜表面电性能 | 第57-58页 |
3.2.4 膜的过滤性能 | 第58-61页 |
4 结论 | 第61-63页 |
5 展望 | 第63-64页 |
6 参考文献 | 第64-71页 |
7 论文发表情况 | 第71-72页 |
8 致谢 | 第72页 |