| 提要 | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-63页 |
| 1.1 传统的图案化构筑技术 | 第12-15页 |
| 1.1.1 光刻技术 | 第12-14页 |
| 1.1.2 扫描离子束光刻技术 | 第14-15页 |
| 1.2 非传统的图案化构筑技术 | 第15-28页 |
| 1.2.1 物理接触复模图案化技术 | 第15-23页 |
| 1.2.1.1 硬模板技术 | 第16-17页 |
| 1.2.1.2 软模板技术 | 第17-23页 |
| 1.2.2 扫描探针印刷技术 | 第23-25页 |
| 1.2.3 边缘印刷技术 | 第25-27页 |
| 1.2.4 自组装技术 | 第27-28页 |
| 1.3 模板辅助的图案化技术 | 第28-41页 |
| 1.3.1 胶体微球模板图案化技术 | 第29-36页 |
| 1.3.2 聚合物模板法构筑图案化结构 | 第36-41页 |
| 1.4 本论文的选题及设计思路 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-63页 |
| 第二章 聚合物热降解驱动的图案变形和非圆形有序结构的构筑 | 第63-84页 |
| 2.1 引言 | 第63-64页 |
| 2.2 实验部分 | 第64-66页 |
| 2.2.1 实验材料 | 第64页 |
| 2.2.2 实验方法 | 第64-66页 |
| 2.2.2.1 聚乙烯醇非圆形孔形貌的有序多孔膜的制备 | 第65-66页 |
| 2.2.2.2 金属或金属氧化物网格阵列的制备 | 第66页 |
| 2.2.3 表征仪器 | 第66页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第66-78页 |
| 2.3.1 聚乙烯醇有序多孔膜图案化微结构的温度依赖性 | 第66-71页 |
| 2.3.2 聚乙烯醇有序多孔膜图案化微结构的时间依赖性 | 第71-72页 |
| 2.3.3 聚乙烯醇有序多孔膜孔形貌变形机理的研究 | 第72-74页 |
| 2.3.4 聚乙烯醇多孔膜孔状结构的排列方式对得到图案化微结构的影响 | 第74-75页 |
| 2.3.5 多角形无机金属或金属氧化物网格结构的制备 | 第75-78页 |
| 2.4 本章小结 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-84页 |
| 第三章 聚合物多孔膜模板法构筑纳米环阵列 | 第84-104页 |
| 3.1 引言 | 第84-85页 |
| 3.2 实验部分 | 第85-87页 |
| 3.2.1 实验材料 | 第85-86页 |
| 3.2.2 实验方法 | 第86-87页 |
| 3.2.3 表征仪器 | 第87页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第87-98页 |
| 3.3.1 金纳米环阵列的形成 | 第87-89页 |
| 3.3.2 网格结构阵列的形成 | 第89-90页 |
| 3.3.3 环或网格结构的形成机理 | 第90-94页 |
| 3.3.4 孔深度对环结构形貌的影响 | 第94-95页 |
| 3.3.5 氯金酸浓度的影响 | 第95-96页 |
| 3.3.6 其它金属氧化物纳米环阵列 | 第96页 |
| 3.3.7 反应离子刻蚀制备硅有序结构 | 第96-98页 |
| 3.4 本章小结 | 第98-99页 |
| 参考文献 | 第99-104页 |
| 第四章 聚合物模板构筑复杂金纳米结构阵列 | 第104-126页 |
| 4.1 前言 | 第104-105页 |
| 4.2 实验部分 | 第105-107页 |
| 4.2.1 实验材料 | 第105-106页 |
| 4.2.2 实验方法 | 第106-107页 |
| 4.2.3 表征仪器 | 第107页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第107-119页 |
| 4.3.1 聚合物膜为模板构筑金粒子有序阵列 | 第107-113页 |
| 4.3.2 蒸镀金层厚度对纳米结构的影响 | 第113-115页 |
| 4.3.3 聚合物模板的孔深度的影响 | 第115-117页 |
| 4.3.4 蒸镀倾斜角度对结构的影响 | 第117-119页 |
| 4.4 本章小结 | 第119-120页 |
| 参考文献 | 第120-126页 |
| 致谢 | 第126-127页 |
| 作者简历 | 第127页 |
| 攻读博士学位期间发表论文 | 第127-129页 |
| 中文摘要 | 第129-132页 |
| Abstract | 第132-134页 |
