基于CVD法制备单层石墨烯工艺参数的优化
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 课题背景 | 第10页 |
| 1.2 石墨烯的结构与特点 | 第10-14页 |
| 1.2.1 石墨烯的结构 | 第10-11页 |
| 1.2.2 石墨烯的性质 | 第11-14页 |
| 1.3 石墨烯制备方法及应用 | 第14-20页 |
| 1.3.1 石墨烯的制备方法 | 第14-20页 |
| 1.4 课题研究意义和主要研究内容 | 第20-21页 |
| 第2章 实验及表征方法 | 第21-30页 |
| 2.1 实验材料及设备 | 第21-22页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第21页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第21-22页 |
| 2.2 实验流程 | 第22-23页 |
| 2.3 CVD法制备石墨烯原理 | 第23-26页 |
| 2.4 石墨烯的表征 | 第26-30页 |
| 第3章 铜箔衬底预处理 | 第30-36页 |
| 3.1 引言 | 第30-31页 |
| 3.2 铜箔衬底退火前预处理 | 第31-32页 |
| 3.3 铜箔衬底的退火处理 | 第32-35页 |
| 3.4 本章小结 | 第35-36页 |
| 第4章 石墨烯的制备与参数优化 | 第36-46页 |
| 4.1 引言 | 第36页 |
| 4.2 生长参数对石墨烯质量的影响 | 第36-43页 |
| 4.2.1 生长温度 | 第36-38页 |
| 4.2.2 碳源浓度 | 第38-40页 |
| 4.2.3 反应时间 | 第40-43页 |
| 4.3 石墨烯的转移 | 第43-45页 |
| 4.4 本章小结 | 第45-46页 |
| 第5章 石墨烯薄膜光电性能研究 | 第46-52页 |
| 5.1 引言 | 第46页 |
| 5.2 石墨烯薄膜透光性表征 | 第46-47页 |
| 5.3 石墨烯薄膜导电性表征 | 第47-49页 |
| 5.4 石墨烯图案化探索 | 第49-51页 |
| 5.5 本章小结 | 第51-52页 |
| 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58页 |
