| 第一章 文献综述 | 第8-31页 |
| 1.1 概述 | 第8-9页 |
| 1.2 纳米薄膜的制备 | 第9-11页 |
| 1.2.1 单层纳米薄膜的制备 | 第9-250页 |
| 1.2.2 纳米多层膜的制备 | 第250-10页 |
| 1.2.3 有序分子膜的制备 | 第10-11页 |
| 1.3 分子自组装法 | 第11-17页 |
| 1.3.1 自组装膜的原理 | 第11页 |
| 1.3.2 自组装膜的结构和成膜机理 | 第11-12页 |
| 1.3.3 自组装膜的分类 | 第12-15页 |
| 1.3.4 分子自组装膜的特征 | 第15-16页 |
| 1.3.5 分子自组装膜的应用 | 第16-17页 |
| 1.4 液相沉积法 | 第17-24页 |
| 1.4.1 液相沉积法的原理 | 第17页 |
| 1.4.2 液相沉积法的分类 | 第17-21页 |
| 1.4.3 液相沉积法的特点 | 第21页 |
| 1.4.4 液相沉积法成膜举例 | 第21-23页 |
| 1.4.5 液相沉积法的发展 | 第23-24页 |
| 1.5 纳米材料的表征 | 第24-28页 |
| 1.5.1 X射线光电子能谱(XPS) | 第24-25页 |
| 1.5.2 扫描俄歇微探针(SAM) | 第25-26页 |
| 1.5.3 原子力显微镜(AFM) | 第26-27页 |
| 1.5.4 其它表征方法 | 第27-28页 |
| 1.6 存在的问题和发展方向 | 第28-29页 |
| 1.7 本工作的目的和主要内容 | 第29-31页 |
| 第二章 实验部分 | 第31-35页 |
| 2.1 实验药品 | 第31页 |
| 2.2 仪器及设备 | 第31页 |
| 2.3 薄膜的制备方法 | 第31-32页 |
| 2.4 薄膜成分及结构表征 | 第32页 |
| 2.5 薄膜保护性能的表征 | 第32-35页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第35-67页 |
| 3.1 成膜条件对液相沉积薄膜的影响 | 第35-55页 |
| 3.1.1 碳钢基材活化处理的影响 | 第35-36页 |
| 3.1.2 成膜溶液浓度的影响 | 第36-39页 |
| 3.1.3 成膜温度的影响 | 第39-40页 |
| 3.1.4 沉积时间的影响 | 第40-44页 |
| 3.1.4.1 沉积时间对薄膜保护效果的影响 | 第40-41页 |
| 3.1.4.2 沉积时间对薄膜结构的影响 | 第41-43页 |
| 3.1.4.3 沉积时间对薄膜颗粒的影响 | 第43-44页 |
| 3.1.5 成膜次数的影响 | 第44-49页 |
| 3.1.5.1 成膜次数对薄膜保护效果的影响 | 第44-45页 |
| 3.1.5.2 成膜次数对薄膜结构的影响 | 第45-47页 |
| 3.1.5.3 成膜次数对薄膜颗粒的影响 | 第47-49页 |
| 3.1.6 成膜溶液pH值的影响 | 第49-55页 |
| 3.1.6.1 成膜溶液pH值对一次沉积膜结构的影响 | 第51-53页 |
| 3.1.6.2 成膜溶液pH值对二次沉积膜结构的影响 | 第53-55页 |
| 3.2 在优化条件下所得液相沉积膜的表征 | 第55-61页 |
| 3.2.1 液相沉积膜成分的分析 | 第55-58页 |
| 3.2.2 液相沉积膜厚度的测定 | 第58-60页 |
| 3.2.3 优化条件下液相沉积膜保护效果的电化学测试 | 第60-61页 |
| 3.2.4 液相沉积膜长期保护效果的测试 | 第61页 |
| 3.3 液相沉积法成膜机理及成膜过程探讨 | 第61-65页 |
| 3.4 对薄膜结构的控制 | 第65-67页 |
| 第四章 结 论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-75页 |
| 致 谢 | 第75-76页 |
| 攻读硕士论文期间论文发表情况 | 第76页 |
