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自抗扰控制及其在聚合反应器中的应用研究

学位论文数据集第3-4页
摘要第4-6页
ABSTRACT第6-8页
符号说明第15-17页
第一章 绪论第17-23页
    1.1 课题背景第17页
    1.2 自抗扰控制的发展状况第17-19页
        1.2.1 抗扰问题及抗扰方法第17-18页
        1.2.2 自抗扰控制的提出与发展第18-19页
    1.3 半间歇聚合反应器的控制第19-21页
        1.3.1 半间歇聚合反应器的扰动问题第20页
        1.3.2 半间歇聚合反应器的控制器设计第20-21页
    1.4 本文主要研究内容第21-23页
第二章 自抗扰控制第23-29页
    2.1 引言第23页
    2.2 自抗扰控制第23-25页
        2.2.1 跟踪微分器第23-24页
        2.2.2 扩张状态观测器第24-25页
        2.2.3 非线性反馈和扰动补偿第25页
    2.3 线性自抗扰控制第25-26页
    2.4 本章小结第26-29页
第三章 基于线性状态反馈和高阶泰勒逼近的线性自抗扰控制第29-39页
    3.1 引言第29页
    3.2 问题描述第29页
    3.3 基于状态重构和状态反馈的线性自抗扰控制第29-33页
        3.3.1 系统状态重构及线性状态反馈第29-32页
        3.3.2 基于高阶泰勒多项式的扩张状态重构第32-33页
    3.4 仿真实验第33-38页
    3.5 本章小结第38-39页
第四章 基于EKF的线性自抗扰控制器输入增益动态估计第39-47页
    4.1 引言第39页
    4.2 扩展卡尔曼滤波器设计第39-41页
        4.2.1 卡尔曼滤波器原理第39-40页
        4.2.2 扩展卡尔曼滤波器状态估计第40-41页
    4.3 线性自抗扰控制器的输入增益动态估计第41-42页
    4.4 仿真实验第42-46页
    4.5 本章小结第46-47页
第五章 半间歇乳液聚合反应器的自抗扰温度控制第47-73页
    5.1 引言第47页
    5.2 问题描述第47-52页
        5.2.1 Chylla-Haase乳液聚合反应过程第48-49页
        5.2.2 聚合反应器模型第49-52页
        5.2.3 过程不确定性和扰动第52页
    5.3 控制器设计第52-58页
        5.3.1 问题转化第53-54页
        5.3.2 非线性自抗扰控制器设计第54-55页
        5.3.3 基于线性状态反馈和高阶泰勒逼近的线性自抗扰控制器设计第55-56页
        5.3.4 动态增益型线性自抗扰控制器设计第56-58页
    5.4 仿真实验第58-71页
        5.4.1 参数估计第58-62页
        5.4.2 对模型参数的鲁棒性第62-65页
        5.4.3 对时滞和外部扰动的鲁棒性第65-66页
        5.4.4 自抗扰控制与其他控制方法的性能比较第66-69页
        5.4.5 改进型线性自抗扰控制器的控制结果第69页
        5.4.6 动态增益型线性自抗扰控制器的控制结果第69-71页
    5.5 本章小结第71-73页
第六章 总结与展望第73-75页
    6.1 总结第73页
    6.2 展望第73-75页
参考文献第75-79页
致谢第79-81页
研究成果及发表的学术论文第81-83页
作者和导师简介第83-84页
附件第84-85页

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