| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1. 绪论 | 第9-21页 |
| ·奥氏体不锈钢的表面工程 | 第9-11页 |
| ·气相沉积技术 | 第9-10页 |
| ·转化膜技术 | 第10页 |
| ·高能束表面改性技术 | 第10-11页 |
| ·等离子体基低能离子注入技术 | 第11-14页 |
| ·等离子体基低能离子注入技术的特点 | 第11-13页 |
| ·氮离子注入奥氏体不锈钢的相结构 | 第13页 |
| ·氮离子注入奥氏体不锈钢的腐蚀性能 | 第13-14页 |
| ·不锈钢的点蚀研究 | 第14-19页 |
| ·点蚀 | 第14-17页 |
| ·钝化 | 第17-19页 |
| ·本论文研究目的与主要内容 | 第19-21页 |
| 2. 实验材料、装置与工艺及分析方法 | 第21-24页 |
| ·实验材料 | 第21页 |
| ·等离子体基低能氮离子注入装置和方法 | 第21-22页 |
| ·分析方法 | 第22-24页 |
| ·X射线衍射分析 | 第22页 |
| ·电化学腐蚀性能测量 | 第22-24页 |
| 3. 等离子体基低能氮离子注入AISI 316奥氏体不锈钢的相结构和耐蚀性能 | 第24-27页 |
| ·等离子体基低能氮离子注入AISI 316奥氏体不锈钢的相结构 | 第24-25页 |
| ·等离子体基低能氮离子注入AISI 316奥氏体不锈钢的阳极极化行为 | 第25-27页 |
| 4. 等离子体基低能氮离子注入AISI 316奥氏体不锈钢的半导体特性 | 第27-47页 |
| ·等离子体基低能氮离子注入AISI 316奥氏体不锈钢的电化学阻抗 | 第27-32页 |
| ·氮离子注入AISI 316奥氏体不锈钢的电化学阻抗谱 | 第27-30页 |
| ·氮离子注入AISI 316奥氏体不锈钢改性层钝化膜的稳定性 | 第30-32页 |
| ·等离子体基低能氮离子注入AISI 316奥氏体不锈钢钝化膜的半导体特性 | 第32-43页 |
| ·氮离子注入AISI 316奥氏体不锈钢钝化膜的Mott-Schottky曲线 | 第32-34页 |
| ·氮离子注入AISI 316奥氏体不锈钢钝化膜的载流子浓度 | 第34-38页 |
| ·氮离子注入AISI 316奥氏体不锈钢钝化膜的平带电位 | 第38-40页 |
| ·氮离子注入AISI 316奥氏体不锈钢钝化膜的空间电荷层厚度 | 第40-42页 |
| ·氮离子注入AISI316奥氏体不锈钢钝化膜的氧空位扩散系数 | 第42-43页 |
| ·讨论 | 第43-47页 |
| 结论 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-51页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
