| 第一章 绪论 | 第12-51页 |
| 1.1 固相合成化学 | 第12-26页 |
| 1.1.1 无机合成与制备化学的研究进展 | 第12-13页 |
| 1.1.2 配位化学的研究进展 | 第13页 |
| 1.1.3 固体无机化学的研究进展 | 第13-14页 |
| 1.1.4 低温固相合成化学 | 第14-20页 |
| 1.1.4.1 固相合成化学 | 第15-16页 |
| 1.1.4.2 固相化学反应的特殊性 | 第16-17页 |
| 1.1.4.3 低温固相化学反应 | 第17-20页 |
| 1.1.5 低温固相化学反应的特有规律 | 第20页 |
| 1.1.6 低温固相化学反应在合成化学中的应用 | 第20-23页 |
| 1.1.7 低温固相化学反应在材料合成中的应用 | 第23-25页 |
| 1.1.8 对低温固相化学反应的展望 | 第25-26页 |
| 1.2 三阶非线性光学性能 | 第26-37页 |
| 1.2.1 非线性光学效应 | 第27页 |
| 1.2.2 非线性光学材料 | 第27-29页 |
| 1.2.3 非线性光学材料的进展研究 | 第29-34页 |
| 1.2.3.1 二阶非线性光学材料 | 第32页 |
| 1.2.3.2 三阶非线性光学材料 | 第32-34页 |
| 1.2.4 原子簇化合物的三阶非线性光学性质 | 第34-37页 |
| 1.3 本课题的研究目的、意义和主要成果 | 第37-38页 |
| 1.4 本课题研究的思路 | 第38-39页 |
| 参考文献 | 第39-51页 |
| 第二章 实验原理、方法和药品 | 第51-58页 |
| 2.1 实验原理 | 第51-52页 |
| 2.1.1 合成 | 第51页 |
| 2.1.2 低温固相合成的特点 | 第51页 |
| 2.1.3 典型的合成路线 | 第51-52页 |
| 2.2 实验方法 | 第52-53页 |
| 2.2.1 合成 | 第52页 |
| 2.2.2 表征 | 第52-53页 |
| 2.3 实验药品 | 第53-55页 |
| 2.4 原料(NH_4)_2MS_4(M = Mo, W) 的合成方法及改进 | 第55-57页 |
| 2.4.1 合成路线 | 第55页 |
| 2.4.2 制备方法 | 第55-56页 |
| 2.4.2.1 四硫代钼酸铵的制备 | 第55-56页 |
| 2.4.2.2 四硫代钨酸铵的制备 | 第56页 |
| 2.4.3 结果与讨论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-58页 |
| 第三章 钼(钨)-铁-硫簇合物的合成与表征 | 第58-100页 |
| 3.1 引言 | 第58-60页 |
| 3.2 化合物1-5 的合成 | 第60-62页 |
| 3.3 化合物1-5 的 X 射线单晶结构分析结果 | 第62-65页 |
| 3.4 化合物1-5 的结构描述 | 第65-74页 |
| 3.5 化合物1-5 的三阶非线性光学性能 | 第74-87页 |
| 3.5.1 簇合物的三阶非线性光学性能 | 第74-75页 |
| 3.5.2 三阶非线性光学性能的测量 | 第75-76页 |
| 3.5.3 光学三阶非线性的原理 | 第76-77页 |
| 3.5.3.1 非线性吸收 | 第76页 |
| 3.5.3.2 非线性折射 | 第76-77页 |
| 3.5.3.3 三阶非线性系数χ~(3) | 第77页 |
| 3.5.3.4 分子超极化率γ | 第77页 |
| 3.5.4 化合物1-5 的三阶非线性光学性能的表征 | 第77-87页 |
| 3.6 化合物1-5 的其它表征 | 第87-93页 |
| 3.6.1 红外光谱 | 第87-90页 |
| 3.6.2 紫外-可见光谱(UV-Visible spectra) | 第90-93页 |
| 3.7 合成讨论 | 第93-94页 |
| 3.7.1 萃取剂的选择 | 第93-94页 |
| 3.7.2 结晶水对低温固相反应性的作用 | 第94页 |
| 3.8 本章小结 | 第94-95页 |
| 参考文献 | 第95-100页 |
| 第四章 Mo(W)-Cu(Ag)配合物的合成与表征 | 第100-137页 |
| 4.1 引言 | 第100-101页 |
| 4.2 化合物6-9 的合成 | 第101-104页 |
| 4.3 化合物6-9 的 X 射线单晶结构分析结果 | 第104-107页 |
| 4.4 化合物6-9 的结构描述 | 第107-118页 |
| 4.5 化合物6-9 的三阶非线性光学性质的表征 | 第118-125页 |
| 4.6 化合物6-9 的其它表征 | 第125-132页 |
| 4.6.1 红外光谱 | 第125-128页 |
| 4.6.2 紫外-可见光谱(UV-Visible spectra) | 第128-131页 |
| 4.6.3 XPS、ESR 谱 | 第131-132页 |
| 4.7 合成讨论 | 第132-134页 |
| 4.7.1 研磨前的预处理对反应产物、产率的影响 | 第133页 |
| 4.7.2 反应温度和时间对产物、产率的影响 | 第133-134页 |
| 4.8 本章小结 | 第134页 |
| 参考文献 | 第134-137页 |
| 第五章 钼(钨)-氧配合物的合成与表征 | 第137-167页 |
| 5.1 引言 | 第137-138页 |
| 5.2 化合物10-12的合成 | 第138-139页 |
| 5.3 化合物10-12 的X 射线单晶结构分析结果 | 第139-142页 |
| 5.4 化合物10-12 的结构描述 | 第142-152页 |
| 5.5 化合物10-12 的三阶非线性光学性质 | 第152-157页 |
| 5.6 化合物10-12 的其它表征 | 第157-161页 |
| 5.6.1 红外光谱 | 第157-159页 |
| 5.6.2 紫外-可见光谱(UV-Visible spectra) | 第159-161页 |
| 5.7 合成讨论 | 第161-163页 |
| 5.7.1 反应过程探索 | 第161-162页 |
| 5.7.2 培养晶体时介质的选择 | 第162-163页 |
| 5.8 溶液法培养晶体的优点 | 第163页 |
| 5.9 本章小结 | 第163-164页 |
| 参考文献 | 第164-167页 |
| 第六章 簇合物的三阶非线性光学性能 | 第167-185页 |
| 6.1 引言 | 第167页 |
| 6.2 三阶非线性理论基础 | 第167-175页 |
| 6.2.1 引言 | 第167-168页 |
| 6.2.2 光学非线性的Z-扫描理论 | 第168-175页 |
| 6.2.2.1 Z-扫描技术的发展 | 第168页 |
| 6.2.2.2 Z-扫描方法的基本原理 | 第168-170页 |
| 6.2.2.3 材料非线性折射的Z-扫描理论 | 第170-173页 |
| 6.2.2.4 材料非线性吸收的Z-扫描理论 | 第173-175页 |
| 6.2.2.5 结论 | 第175页 |
| 6.3 非线性材料的光限幅特性理论 | 第175-179页 |
| 6.3.1 引言 | 第175页 |
| 6.3.2 光限幅参数 | 第175-176页 |
| 6.3.3 光限幅机理 | 第176-179页 |
| 6.3.3.1 反饱和吸收(RSA) | 第176-177页 |
| 6.3.3.2 双光子吸收(TPA) | 第177页 |
| 6.3.3.3 非线性折射 | 第177-178页 |
| 6.3.3.4 非线性散射 | 第178页 |
| 6.3.3.5 自散焦(或自聚焦) | 第178-179页 |
| 6.3.3.6 自由载流子吸收 | 第179页 |
| 6.4 三阶非线性极化率 | 第179-181页 |
| 6.4.1 三阶非线性极化率的计算 | 第179-180页 |
| 6.4.2 单分子三阶非线性极化率公式 | 第180页 |
| 6.4.3 三阶非线性基本理论 | 第180-181页 |
| 6.5 关于对簇合物三阶非线性的探索 | 第181-182页 |
| 6.6 小结 | 第182-183页 |
| 参考文献 | 第183-185页 |
| 第七章 结语 | 第185-188页 |
| 7.1 本论文所取得的研究成果 | 第185页 |
| 7.2 结论 | 第185-186页 |
| 7.3 问题与展望 | 第186-188页 |
| 致谢 | 第188-189页 |
| 作者简历 | 第189页 |
| 攻读博士学位期间发表论文 | 第189-194页 |
| 中文摘要 | 第194-203页 |
| 英文摘要 | 第203页 |
| 附录 | 第213-247页 |
