基于损耗特性的光学元件表面质量表征研究
| 致谢 | 第3-4页 |
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 1 引言 | 第9-19页 |
| 1.1 研究背景及研究意义 | 第9-10页 |
| 1.2 光学元件表面质量表征的方法 | 第10-13页 |
| 1.3 光学元件的缺陷 | 第13-14页 |
| 1.4 光学元件的散射和吸收 | 第14-18页 |
| 1.4.1 光学元件的散射 | 第14-16页 |
| 1.4.2 光学元件的吸收 | 第16-18页 |
| 1.5 本论文的研究内容 | 第18-19页 |
| 2 散射理论及数值计算 | 第19-37页 |
| 2.1 散射理论 | 第19-32页 |
| 2.1.1 Kirchhoff近似 | 第19-24页 |
| 2.1.2 Rayleigh假设 | 第24-26页 |
| 2.1.3 Beckmann散射理论 | 第26-28页 |
| 2.1.4 总散射 | 第28-29页 |
| 2.1.5 Mie散射理论 | 第29-32页 |
| 2.2 数值计算 | 第32-36页 |
| 2.2.1 不同表面粗糙度光学元件的散射计算 | 第32-33页 |
| 2.2.2 不同尺寸表面缺陷的散射计算 | 第33-35页 |
| 2.2.3 光学元件总散射的理论分析 | 第35-36页 |
| 本章小结 | 第36-37页 |
| 3 光散射法表征光学元件的表面质量 | 第37-53页 |
| 3.1 总散射测量装置简介 | 第37-38页 |
| 3.2 总散射值法表征光学元件的表面质量 | 第38-40页 |
| 3.2.1 实验样品的选择 | 第38-39页 |
| 3.2.2 硅基片样品的总散射值 | 第39-40页 |
| 3.3 散射图法表征光学元件的表面质量 | 第40-46页 |
| 3.3.1 硅基片样品表面缺陷与散射图的关系 | 第40-43页 |
| 3.3.2 散射图表征硅基片样品的表面质量 | 第43-45页 |
| 3.3.3 光散射法表征大口径光学元件的表面质量 | 第45-46页 |
| 3.4 表面微观粗糙度、表面缺陷与散射的关系 | 第46-52页 |
| 3.4.1 表面微观粗糙度与总散射的关系 | 第46-49页 |
| 3.4.2 表面缺陷与总散射的关系 | 第49-52页 |
| 本章小结 | 第52-53页 |
| 4 吸收损耗表征光学元件的表面质量 | 第53-66页 |
| 4.1 激光量热法测量光学元件的微弱吸收 | 第53-59页 |
| 4.1.1 激光量热法 | 第53-55页 |
| 4.1.2 硅基片样品镀膜前后吸收的变化 | 第55-57页 |
| 4.1.3 光学元件缺陷位置处吸收的变化 | 第57-59页 |
| 4.2 表面热透镜法探究光学元件的表面质量 | 第59-65页 |
| 4.2.1 表面热透镜法 | 第59-61页 |
| 4.2.2 表面热透镜实验装置简介 | 第61-62页 |
| 4.2.3 吸收图法表征光学元件的表面质量 | 第62-65页 |
| 本章小结 | 第65-66页 |
| 5 总结与展望 | 第66-68页 |
| 5.1 论文主要工作 | 第66-67页 |
| 5.2 对后续工作的建议 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-73页 |
| 作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第73-74页 |
