| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 1 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 引言 | 第9-11页 |
| 1.2 目前中高频面形误差抑制的方法 | 第11-18页 |
| 1.2.1 基于熵增原理的中高频误差抑制方法 | 第12页 |
| 1.2.2 伪随机加工路径方法 | 第12-13页 |
| 1.2.3 高频振动(Vibe)共形加工法 | 第13-14页 |
| 1.2.4 离子束牺牲层法 | 第14-16页 |
| 1.2.5 被动半刚性磨盘平滑中频误差 | 第16-17页 |
| 1.2.6 Rigid Conformal磨盘平滑中频误差 | 第17-18页 |
| 1.3 课题的主要研究内容和目标 | 第18-19页 |
| 2 沥青盘平滑的理论分析 | 第19-23页 |
| 2.1 平滑模型的理论分析 | 第19-21页 |
| 2.2 平滑的频率范围与速度比的关系 | 第21-22页 |
| 2.3 本章小结 | 第22-23页 |
| 3 平滑实验与结果分析 | 第23-45页 |
| 3.1 平滑实验 | 第23-27页 |
| 3.1.1 CCOS技术的工作原理 | 第23-24页 |
| 3.1.2 沥青盘平滑过程中的运动模型 | 第24-25页 |
| 3.1.3 去除函数实验 | 第25-26页 |
| 3.1.4 平滑实验 | 第26-27页 |
| 3.2 平滑实验结果和分析 | 第27-43页 |
| 3.2.1 PV和RMS收敛曲线 | 第27-30页 |
| 3.2.2 功率谱密度函数收敛曲线 | 第30-34页 |
| 3.2.3 正交试验结果分析与讨论 | 第34-41页 |
| 3.2.3.1 平滑参数对PV收敛极限的影响 | 第34-36页 |
| 3.2.3.2 平滑参数对RMS收敛极限的影响 | 第36-38页 |
| 3.2.3.3 平滑参数对收敛快慢的影响 | 第38-40页 |
| 3.2.3.4 离差分析 | 第40-41页 |
| 3.2.4 综合分析 | 第41-43页 |
| 3.3 本章小结 | 第43-45页 |
| 4 实验结论的应用 | 第45-51页 |
| 4.1 实验结论应用于平面光学元件的平滑加工 | 第45-46页 |
| 4.1.1 实验设备和实验条件 | 第45-46页 |
| 4.1.2 平滑结果与讨论 | 第46页 |
| 4.2 实验结论应用于高次非球面光学元件的平滑加工 | 第46-48页 |
| 4.2.1 实验设备和实验条件 | 第46-47页 |
| 4.2.2 平滑结果与讨论 | 第47-48页 |
| 4.3 本章小结 | 第48-51页 |
| 5 结论与展望 | 第51-53页 |
| 5.1 本文主要研究内容 | 第51-52页 |
| 5.2 研究展望 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第57页 |