| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 图清单 | 第10-12页 |
| 表清单 | 第12页 |
| 符号说明 | 第12-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-29页 |
| ·引言 | 第13-14页 |
| ·螺旋取代聚乙炔 | 第14-17页 |
| ·螺旋取代聚乙炔的合成 | 第17-19页 |
| ·螺旋聚乙炔的光学活性影响 | 第19-25页 |
| ·溶剂的影响 | 第20页 |
| ·温度影响 | 第20-22页 |
| ·pH值影响 | 第22-23页 |
| ·光照影响 | 第23-24页 |
| ·小分子添加剂的影响 | 第24-25页 |
| ·含脲的阴离子受体 | 第25-26页 |
| ·本论文的研究的意义和内容 | 第26-29页 |
| ·研究意义 | 第26-27页 |
| ·研究内容 | 第27-29页 |
| 第二章 含脲基的螺旋取代聚苯乙炔的合成与光学活性 | 第29-52页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·实验部分 | 第29-32页 |
| ·原料与试剂 | 第29-30页 |
| ·设备与仪器 | 第30页 |
| ·单体的合成 | 第30-32页 |
| ·催化剂的合成 | 第32页 |
| ·聚合反应 | 第32页 |
| ·结果与讨论 | 第32-51页 |
| ·单体的合成与表征 | 第32-34页 |
| ·聚合物的合成与表征 | 第34-36页 |
| ·聚合物的二次级结构 | 第36-42页 |
| ·环境对聚合物二级结构的影响 | 第42-46页 |
| ·阴离子对聚合物光学活性的影响 | 第46-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第三章 含脲基的螺旋取代聚(N-丙炔酰胺)的合成与光学活性 | 第52-77页 |
| ·引言 | 第52页 |
| ·实验部分 | 第52-55页 |
| ·实验仪器 | 第52-53页 |
| ·实验药品 | 第53页 |
| ·单体合成 | 第53-54页 |
| ·聚合物合成 | 第54-55页 |
| ·结果与讨论 | 第55-76页 |
| ·单体合成与表征 | 第55-57页 |
| ·聚合物合成与表征 | 第57-59页 |
| ·聚合物的二级结构 | 第59-61页 |
| ·环境对聚合物二次结构的影响 | 第61-68页 |
| ·阴离子对聚合物光学活性的影响 | 第68-76页 |
| ·本章小结 | 第76-77页 |
| 结论 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-86页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第86-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |
| 附件 | 第88页 |