| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第12-29页 |
| 1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第12-13页 |
| 1.2 光学显微面形测量技术 | 第13-22页 |
| 1.2.1 相移干涉显微技术 | 第13-15页 |
| 1.2.2 白光干涉显微技术 | 第15-17页 |
| 1.2.3 共焦显微技术 | 第17-20页 |
| 1.2.4 结构光照明层析显微技术 | 第20-22页 |
| 1.3 高曲率及大倾角表面面形测量方法 | 第22-26页 |
| 1.3.1 扫描拼接测量法 | 第23-24页 |
| 1.3.2 荧光液浸入式测量方法 | 第24-26页 |
| 1.4 本课题所涉及的科学问题 | 第26-27页 |
| 1.5 本文的主要研究内容 | 第27-29页 |
| 第2章 反射式明场共焦显微成像机理 | 第29-48页 |
| 2.1 引言 | 第29页 |
| 2.2 明场共焦显微技术的成像机理 | 第29-39页 |
| 2.2.1 单透镜衍射成像 | 第29-34页 |
| 2.2.2 相干共焦扫描成像机理 | 第34-37页 |
| 2.2.3 相干共焦成像系统传递函数分析 | 第37-39页 |
| 2.3 高曲率及大倾角表面成像性能分析 | 第39-46页 |
| 2.3.1 倾斜表面轴向响应分析 | 第39-44页 |
| 2.3.2 传递函数分析 | 第44-46页 |
| 2.4 本章小结 | 第46-48页 |
| 第3章 中介层散射共焦显微形状测量方法 | 第48-67页 |
| 3.1 引言 | 第48页 |
| 3.2 荧光中介层沉积 | 第48-52页 |
| 3.2.1 荧光中介层沉积率分析 | 第50-51页 |
| 3.2.2 荧光中介层沉积均匀性分析 | 第51-52页 |
| 3.3 中介层散射共焦显微成像原理 | 第52-55页 |
| 3.4 明场共焦与荧光共焦成像特性比较 | 第55-59页 |
| 3.5 中介层厚度不均误差分析与校正 | 第59-65页 |
| 3.6 本章小结 | 第65-67页 |
| 第4章 共焦表面位置定位算法 | 第67-82页 |
| 4.1 引言 | 第67页 |
| 4.2 峰值定位质心算法 | 第67-69页 |
| 4.3 峰值定位非线性拟合算法 | 第69-74页 |
| 4.4 零点提取线性拟合算法 | 第74-76页 |
| 4.5 共焦峰值位置精度的MONTE-CARLO分析 | 第76-81页 |
| 4.6 本章小结 | 第81-82页 |
| 第5章 中介层散射共焦仪器集成及实验 | 第82-103页 |
| 5.1 引言 | 第82页 |
| 5.2 光滑铟球阵列测量实验 | 第82-86页 |
| 5.2.1 样品制备 | 第82-84页 |
| 5.2.2 样品测量 | 第84-86页 |
| 5.2.3 中介层去除 | 第86页 |
| 5.3 荧光中介层台阶测量实验 | 第86-91页 |
| 5.3.1 沉积均匀性实验 | 第86-88页 |
| 5.3.2 透明基底荧光中介层台阶测量 | 第88-90页 |
| 5.3.3 反射基底荧光中介层台阶测量 | 第90-91页 |
| 5.4 中介层散射共焦仪器集成研究 | 第91-102页 |
| 5.4.1 共焦显微镜探测光路实现 | 第92-94页 |
| 5.4.2 共焦显微镜三维扫描实现 | 第94-95页 |
| 5.4.3 实验装置 | 第95-97页 |
| 5.4.4 柱面微透镜阵列测量实验 | 第97-98页 |
| 5.4.5 花粉测量实验 | 第98-100页 |
| 5.4.6 光栅测量实验 | 第100-102页 |
| 5.5 本章小结 | 第102-103页 |
| 结论 | 第103-105页 |
| 参考文献 | 第105-113页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及其它成果 | 第113-116页 |
| 致谢 | 第116-117页 |
| 个人简历 | 第117页 |