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霍尔推力器壁面材料二次电子发射模型及鞘层特性研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6页
第1章 绪论第10-20页
    1.1 研究背景及意义第10-12页
    1.2 霍尔推力器的国内外研究现状第12-15页
    1.3 壁面材料二次电子发射模型的研究现状第15-17页
    1.4 霍尔推力器绝缘壁面鞘层研究现状及意义第17-19页
    1.5 论文研究内容及章节安排第19-20页
第2章 霍尔推力器不同壁面材料二次电子发射模型的研究第20-32页
    2.1 引言第20页
    2.2 Morozov的二次电子发射模型第20-23页
    2.3 改进的SiC壁面材料二次电子发射模型第23-29页
    2.4 改进的C壁面材料二次电子发射模型第29-31页
    2.5 本章小结第31-32页
第3章 霍尔推力器壁面鞘层物理模型及数值研究第32-44页
    3.1 引言第32页
    3.2 物理模型第32-38页
        3.2.1 物理模型第33-34页
        3.2.2 边界条件第34-38页
    3.3 数值计算方法第38-42页
        3.3.1 空间及时间步长的划分第39-40页
        3.3.2 泊松方程的求解第40-41页
        3.3.3 运动方程的求解第41-42页
    3.4 本章小结第42-44页
第4章 不同壁面材料二次电子发射对鞘层特性影响的研究第44-55页
    4.1 引言第44页
    4.2 不同壁面材料二次电子发射特性的研究第44-46页
    4.3 不同壁面材料二次电子发射对壁面和鞘层电势影响的研究第46-51页
    4.4 不同壁面材料二次电子发射对鞘层电场影响的研究第51-53页
    4.5 本章小结第53-55页
第5章 霍尔推力器电子与壁面碰撞频率及近壁传导电流的研究第55-61页
    5.1 引言第55页
    5.2 电子与壁面碰撞频率的规律研究第55-58页
    5.3 近壁传导电流特性的研究第58-60页
    5.5 本章小结第60-61页
结论与展望第61-63页
参考文献第63-69页
攻读学位期间公开发表论文第69-70页
致谢第70页

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