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MgH2生成焓的基准计算和哈斯勒化合物ZrMnVZ和ZrCoFeZ(Z=Si,Ge)的第一性原理研究

中文摘要第3-5页
Abstract第5-6页
第一章 前言第10-19页
    1.1 哈斯勒化合物第10-15页
    1.2 本文的研究目的、意义和研究内容第15-19页
        1.2.1 本文的研究目的、意义第15-17页
        1.2.2 本文的研究内容第17-19页
第二章 理论基础第19-42页
    1 量子多体问题第20-28页
        1.1 薛定谔方程第21-22页
        1.2 玻恩-奥本海默近似第22-24页
        1.3 Hartree-Fock近似第24-28页
            1.3.1 Hartree自洽场方法第24-25页
            1.3.2 Hartree-Fock自洽场方法第25-26页
            1.3.3 电子关联第26-28页
    2 密度泛函理论第28-34页
        2.1 Thomas-Fermi模型第29页
        2.2 Hohenberg-Kohn定理第29-30页
        2.3 Kohn-Sham方程第30-32页
        2.4 交换关联泛函第32-33页
        2.5 数值求解Kohn-Sham方程第33-34页
    3 量子蒙特卡罗第34-42页
        3.1 变分蒙特卡罗(VMC)第35-36页
        3.2 投影蒙特卡罗(PMC)第36-40页
            3.2.1 扩散蒙特卡罗(DMC)第37-39页
            3.2.2 爬行蒙特卡罗(RMC)第39-40页
        3.3 周期性边界条件第40-42页
            3.3.1 有限尺寸误差第40-42页
第三章 MgH_2生成焓的基准计算第42-49页
    1 引言第42-43页
    2 计算方法第43-46页
        2.1 团簇近似扩展第43-46页
        2.2 密度泛函理论方法第46页
        2.3 量子蒙特卡罗方法第46页
    3 结果与讨论第46-48页
    4 结论第48-49页
第四章 哈斯勒化合物ZrMnVZ和ZrCoFeZ(Z=Si,Ge)的第一性原理研究第49-71页
    1 引言第49-50页
    2 计算方法第50页
    3 稳定性第50-58页
        3.1 结构稳定性第50-53页
        3.2 物理稳定性第53页
        3.3 化学稳定性第53-55页
        3.4 机械稳定性第55-58页
    4 电子结构与磁性分析第58-65页
    5 Slater-Pauling规则第65-66页
    6 居里温度第66-67页
    7 晶格常数的影响探究第67-70页
    8 小结第70-71页
第五章 结构相稳定性研究第71-79页
    1 引言第71页
    2 相结构稳定性分析第71-73页
    3 电子结构和磁性分析第73-78页
    4 小结第78-79页
第六章 掺杂对半金属性质的影响第79-93页
    1 引言第79-80页
    2 主族元素掺杂第80-86页
        2.1 电子结构和磁学性质第80-83页
        2.2 稳定性第83-85页
        2.3 掺杂比例影响第85-86页
    3 过渡金属元素掺杂第86-91页
        3.1 电子结构和磁学性质第87-89页
        3.2 稳定性第89-90页
        3.3 掺杂比例影响第90-91页
    4 小结第91-93页
第七章 表面性质研究第93-110页
    1 计算方法第93页
    2 晶胞结构第93-94页
    3 电子结构与磁性第94-106页
    4 表面稳定性第106-109页
    5 小结第109-110页
第八章 结论和展望第110-112页
参考文献第112-123页
论文发表情况第123-125页
致谢第125页

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