| 摘要 | 第5-9页 |
| Abstract | 第9-13页 |
| 第一章 绪论 | 第16-44页 |
| 1.1 引言 | 第16-18页 |
| 1.2 稀土-过渡合金研究进展 | 第18-21页 |
| 1.2.1 稀土的磁性 | 第18页 |
| 1.2.2 稀土-过渡合金的磁性 | 第18-19页 |
| 1.2.3 磁性过渡-稀土合金材料的研究现状 | 第19-21页 |
| 1.3 交换作用和磁相互作用 | 第21-29页 |
| 1.3.1 交换作用 | 第21-22页 |
| 1.3.2 磁各向异性 | 第22-25页 |
| 1.3.3 形状各向异性 | 第25-29页 |
| 1.4 磁化动力学过程 | 第29-37页 |
| 1.4.1 阻尼进动和LLG方程 | 第29页 |
| 1.4.2 铁磁共振线宽 | 第29-30页 |
| 1.4.3 自旋泵浦效应 | 第30-34页 |
| 1.4.4 自旋霍尔效应 | 第34-37页 |
| 1.5 高频软磁材料 | 第37-38页 |
| 1.6 本论文中的主要研究内容 | 第38-39页 |
| 参考文献 | 第39-44页 |
| 第二章 基本实验方法和测量原理 | 第44-66页 |
| 2.1 样品的制备 | 第44-49页 |
| 2.1.1 薄膜样品的制备 | 第44-46页 |
| 2.1.2 非晶带材样品的制备 | 第46-49页 |
| 2.2 样品的结构形貌表征 | 第49-53页 |
| 2.2.1 双光干涉显微镜测量薄膜厚度 | 第49-50页 |
| 2.2.2 X射线衍射仪 | 第50-52页 |
| 2.2.3 扫描电子显微镜以及X射线能谱 | 第52-53页 |
| 2.3 样品的物性原理和测量 | 第53-60页 |
| 2.3.1 振动样品磁强计(VSM) | 第53-55页 |
| 2.3.2 铁磁共振FMR | 第55-57页 |
| 2.3.3 阻抗分析仪-磁导率的测量 | 第57-59页 |
| 2.3.4 电阻率的测量 | 第59-60页 |
| 2.4 光刻掩膜技术以及平面霍尔效应测量平台 | 第60-63页 |
| 2.4.1 光刻掩膜技术 | 第60-62页 |
| 2.4.2 平面霍尔效应测量平台 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 第三章 坡莫合金/稀土异质结构的界面自旋泵浦效应研究 | 第66-102页 |
| 3.1 Py/Tb和Py/Tb/Py系列薄膜的磁性 | 第67-74页 |
| 3.1.1 Py/Tb和Py/Tb/Py系列薄膜的制备和结构 | 第67-69页 |
| 3.1.2 Py/Tb系列样品的磁滞回线和静态磁性 | 第69-71页 |
| 3.1.3 Ta(5)/Py(30)/Tb(d)/Py(30)/Ta(2)系列薄膜的静态磁性 | 第71-74页 |
| 3.2 Py/Tb双层薄膜的铁磁共振研究 | 第74-82页 |
| 3.2.1 Ta(5)/Py(30)/Tb(d)/Ta(2)双层薄膜的铁磁共振实验数据 | 第75-76页 |
| 3.2.2 Ta(5)/Py(30)/Tb(d)/Ta(2)双层薄膜的共振场理论拟合 | 第76-79页 |
| 3.2.3 Ta(5)/Py(30)/Tb(d)/Ta(2)双层薄膜的共振线宽及理论拟合 | 第79-80页 |
| 3.2.4 Ta(5)/Py(30)/Tb(d)/Ta(2)双层薄膜的自旋泵浦 | 第80-82页 |
| 3.3 Ta(5)/Py(30)/Tb(d)/Py(30)/Ta(2)系列薄膜的铁磁共振 | 第82-91页 |
| 3.3.1 Ta(5)/Py(30)/Tb(d)/Py(30)/Ta(2)系列薄膜的共振场和理论拟合 | 第83-85页 |
| 3.3.2 Ta(5)/Py(30)/Tb(d)/Py(30)/Ta(2)系列薄膜的共振线宽和理论拟合 | 第85-86页 |
| 3.3.3 Py/Tb/Py系列薄膜的自旋泵浦效应 | 第86-91页 |
| 3.4 Py/Nd和Py/Nd/Py系列样品的磁性和自旋泵浦效应 | 第91-98页 |
| 3.4.1 样品的制备 | 第91页 |
| 3.4.2 Py/Nd和py/Nd/Py系列样品的基本磁性 | 第91-94页 |
| 3.4.3 Py/Nd和Py/Nd/Py系列样品的铁磁共振 | 第94-96页 |
| 3.4.4 Py/Nd和Py/Nd/Py系列样品的自旋泵浦研究 | 第96-98页 |
| 本章小结 | 第98-99页 |
| 参考文献 | 第99-102页 |
| 第四章 Cu基材料掺杂Ta引起的强自旋轨道耦合研究 | 第102-128页 |
| 4.1 样品的制备 | 第103-104页 |
| 4.2 样品的成分分析和表征 | 第104-106页 |
| 4.3 铁磁共振VNA-FMR研究自旋泵浦效应 | 第106-107页 |
| 4.4 平面霍尔效应研究 | 第107-121页 |
| 4.4.1 光刻掩膜技术刻蚀Hall Bar结构 | 第107-108页 |
| 4.4.2 平面霍尔效应测量平台和计算 | 第108-113页 |
| 4.4.3 Py/Cu-Ta系列样品的平面霍尔效应测量 | 第113-118页 |
| 4.4.4 电阻率的测量和Hall Bar结构中的电流分布 | 第118-121页 |
| 4.5 自旋霍尔系数及自旋霍尔角的计算 | 第121-124页 |
| 本章小结 | 第124-125页 |
| 参考文献 | 第125-128页 |
| 第五章 掺Cr-FeHfBO带材的高频磁特性 | 第128-150页 |
| 5.1 样品制备和实验装置 | 第129-132页 |
| 5.1.1 样品制备 | 第129-130页 |
| 5.1.2 退火装置的设计搭建 | 第130-132页 |
| 5.2 带材样品的结构和形貌表征 | 第132-141页 |
| 5.2.1 纯Fe和FeCr系列带材样品 | 第133-134页 |
| 5.2.2 硼元素以及辊筒转速对初始带材样品的非晶态的影响 | 第134-135页 |
| 5.2.3 Fe_(80)Hf_9Cr_8B_3以及Fe_(85)Hf_(10)Cr_2B_3退火后的结晶研究 | 第135-138页 |
| 5.2.4 Fe_(85)Hf_(10)Cr_2B_3系列样品的形貌表征 | 第138-141页 |
| 5.3 样品的静磁特性 | 第141-145页 |
| 5.3.1 Fe_(80)Hf_9Cr_8B_3系列样品的静磁特性 | 第141-142页 |
| 5.3.2 Fe_(85)Hf_(10)Cr_2B_3系列样品的静磁特性 | 第142-145页 |
| 5.4 电阻率测量 | 第145-146页 |
| 5.5 磁导率的测量 | 第146-148页 |
| 5.5.1 实验装置及测量计算 | 第146-147页 |
| 5.5.2 样品测量结果 | 第147-148页 |
| 本章小结 | 第148页 |
| 参考文献 | 第148-150页 |
| 工作总结与研究展望 | 第150-152页 |
| 博士期间已发表和待发表的学术论文 | 第152-153页 |
| 致谢 | 第153页 |
