摘要 | 第5-7页 |
ABSTRACT | 第7-8页 |
符号对照表 | 第12-13页 |
缩略语对照表 | 第13-16页 |
第一章 绪论 | 第16-24页 |
1.1 二维材料简介 | 第16-18页 |
1.2 石墨烯制作工艺 | 第18-19页 |
1.3 MoS_2的制作工艺 | 第19页 |
1.4 二维材料层堆叠异质结简介 | 第19-20页 |
1.5 第一性原理 | 第20-21页 |
1.6 Materials Studio软件简介 | 第21页 |
1.7 论文的研究内容 | 第21-24页 |
第二章 WS_2/MoS_2异质结内部结构和晶格振动 | 第24-38页 |
2.1 WS_2/MoS_2异质结异质结的制作工艺 | 第24-25页 |
2.2 计算模型和方法 | 第25-26页 |
2.3 结果与讨论 | 第26-36页 |
2.3.1 几何结构优化前后对比 | 第26-27页 |
2.3.2 能带结构与电子态密度分布 | 第27-29页 |
2.3.3 异质结中的电子布局、差分电荷密度及内建电场 | 第29-31页 |
2.3.4 异质结的声子谱和拉曼光谱 | 第31-34页 |
2.3.5 光学特性 | 第34-36页 |
2.4 结论 | 第36-38页 |
第三章 不同堆叠方式TMDs异质结光学性质的影响 | 第38-50页 |
3.1 计算模型 | 第38-39页 |
3.2 结果讨论 | 第39-45页 |
3.2.1 能带结构 | 第39页 |
3.2.2 异质结形成能的计算及晶格变化 | 第39-40页 |
3.2.3 光学性质 | 第40-45页 |
3.3 几种TMDs-MoS_2异质结性质比较 | 第45-48页 |
3.3.1 计算结果与讨论 | 第45页 |
3.3.2 光学性质 | 第45-48页 |
3.4 结论 | 第48-50页 |
第四章 石墨烯-TMDs异质结研究 | 第50-62页 |
4.1 石墨烯基异质结研究背景 | 第50-51页 |
4.2 Graphene-MoS_2异质结 | 第51-55页 |
4.2.1 异质结的计算模型 | 第51-52页 |
4.2.2 计算方法 | 第52页 |
4.2.3 结果讨论 | 第52-55页 |
4.3 其他Graphene-TMDs异质结的研究 | 第55-59页 |
4.3.1 结果与讨论 | 第56-58页 |
4.3.2 光学性质 | 第58-59页 |
4.4 结论 | 第59-62页 |
第五章 总结与展望 | 第62-64页 |
参考文献 | 第64-68页 |
致谢 | 第68-70页 |
作者简介 | 第70-71页 |