| 摘要 | 第10-11页 |
| Abstract | 第11-12页 |
| 第一章 绪论 | 第13-27页 |
| 1.1 水资源及循环水 | 第13页 |
| 1.2 硅及硅垢 | 第13-14页 |
| 1.3 硅垢结垢机理分析及影响因素 | 第14-17页 |
| 1.4 硅垢的危害 | 第17-18页 |
| 1.5 预防硅垢的方法 | 第18-20页 |
| 1.5.1 混凝脱硅 | 第18页 |
| 1.5.2 超滤脱除胶体硅 | 第18-19页 |
| 1.5.3 反渗透法 | 第19页 |
| 1.5.4 气浮法 | 第19页 |
| 1.5.5 电凝聚脱硅 | 第19-20页 |
| 1.5.6 离子交换脱硅 | 第20页 |
| 1.5.7 硅垢阻垢剂 | 第20页 |
| 1.6 阻垢剂的作用机理 | 第20-23页 |
| 1.6.1 螯合作用 | 第20-21页 |
| 1.6.2 分散作用 | 第21页 |
| 1.6.3 晶格畸变 | 第21-22页 |
| 1.6.4 双电层理论 | 第22页 |
| 1.6.5 溶限效应 | 第22-23页 |
| 1.6.6 再生——自解脱膜假说 | 第23页 |
| 1.6.7 阻垢剂阻垢机理小结 | 第23页 |
| 1.7 硅垢阻垢剂的研究 | 第23-25页 |
| 1.7.1 胺类聚合物 | 第23-24页 |
| 1.7.2 羧酸类聚合物 | 第24页 |
| 1.7.3 磺酸类聚合物 | 第24页 |
| 1.7.4 醚类聚合物 | 第24-25页 |
| 1.7.5 树枝状聚合物 | 第25页 |
| 1.8 本论文的研究的内容和意义 | 第25-27页 |
| 第二章 聚合物的合成与表征 | 第27-35页 |
| 2.1 AA、AMPS及TBAM | 第27-29页 |
| 2.1.1 丙烯酸(AA)的结构及应用 | 第27页 |
| 2.1.2 AMPS的结构及应用 | 第27-28页 |
| 2.1.3 N-叔丁基丙烯酰胺(TBAM) | 第28-29页 |
| 2.2 ZG-001的合成 | 第29-30页 |
| 2.3 聚合物的核磁共振图谱 | 第30-35页 |
| 2.3.1 ZG-001的~1HNMR图谱 | 第30-32页 |
| 2.3.2 ZG-001的~(13)CNMR图谱 | 第32-35页 |
| 第三章 阻垢剂阻硅垢性能测定 | 第35-61页 |
| 3.1 实验药剂及仪器 | 第35-36页 |
| 3.2 静态阻垢实验方法 | 第36-37页 |
| 3.2.1 静态阻法阻胶体硅垢的实验方法 | 第36页 |
| 3.2.2 静态阻垢法阻硅酸盐垢的实验方法 | 第36-37页 |
| 3.3 聚合物阻垢剂阻硅垢性能 | 第37-47页 |
| 3.3.1 阻垢剂阻胶体硅垢实验方法 | 第37-40页 |
| 3.3.2 硅酸钙垢的阻垢实验方法 | 第40-43页 |
| 3.3.3 硅酸镁垢的阻垢实验方法 | 第43-46页 |
| 3.3.4 ZG-001阻垢性能总结 | 第46-47页 |
| 3.4 ZG-001与Acumer-5000阻垢性能比较 | 第47-51页 |
| 3.5 ZG-001与药剂复配阻硅垢性能比较 | 第51-58页 |
| 3.5.1 ZG-001与药剂复配阻胶体硅垢性能比较 | 第51-54页 |
| 3.5.2 ZG-001与PESA复配阻硅酸钙硅垢性能比较 | 第54-55页 |
| 3.5.3 ZG-001与HEDP复配阻硅酸镁硅垢性能比较 | 第55-57页 |
| 3.5.4 ZG-001与药剂复配阻硅垢性能总结 | 第57-58页 |
| 3.6 高浓度阻垢剂阻垢实验 | 第58-59页 |
| 3.7 小结 | 第59-61页 |
| 第四章 结论与展望 | 第61-63页 |
| 4.1 结论 | 第61-62页 |
| 4.2 创新、不足与展望 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 致谢 | 第69-71页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第71-72页 |
| 附表 | 第72页 |
