| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 太赫兹波 | 第10-12页 |
| 1.1.1 太赫兹波特性及其应用 | 第11页 |
| 1.1.2 太赫兹探测器 | 第11-12页 |
| 1.2 光学增透窗口的设计方法 | 第12-15页 |
| 1.2.1 传统光学薄膜 | 第12-14页 |
| 1.2.2 亚波长增透结构 | 第14-15页 |
| 1.3 二元光学 | 第15-20页 |
| 1.3.1 二元光学概念 | 第15-17页 |
| 1.3.2 二元光学设计理论 | 第17页 |
| 1.3.3 二元光学制作方法 | 第17-20页 |
| 1.3.3.1 有掩膜方法 | 第17-19页 |
| 1.3.3.2 无掩膜方法 | 第19-20页 |
| 1.4 国内外研究现状 | 第20页 |
| 1.5 本文研究的主要内容 | 第20-22页 |
| 第二章 亚波长增透结构的理论基础 | 第22-35页 |
| 2.1 电磁波理论基础 | 第22-23页 |
| 2.2 等效介质理论 | 第23-30页 |
| 2.2.1 一维亚波长周期结构的零级等效介质理论 | 第24-26页 |
| 2.2.2 一维亚波长周期结构的二级等效介质理论 | 第26-27页 |
| 2.2.3 二维亚波长周期结构的零级等效介质理论 | 第27-28页 |
| 2.2.4 二维正方状体亚波长周期结构的二级等效介质理论 | 第28-29页 |
| 2.2.5 亚波长结构的周期界定 | 第29-30页 |
| 2.3 严格耦合波理论 | 第30-34页 |
| 2.3.1 二维亚波长结构的严格耦合波理论分析 | 第31-34页 |
| 2.4 本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 太赫兹增透窗口结构设计 | 第35-43页 |
| 3.1 分析设计方法（EMT-RCWA） | 第35-36页 |
| 3.2 双面增透窗口结构 | 第36-41页 |
| 3.2.1 入射面增透结构 | 第37-39页 |
| 3.2.2 出射面抗反射结构 | 第39-41页 |
| 3.3 掩膜版图形 | 第41-42页 |
| 3.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 太赫兹增透窗口结构的制作过程 | 第43-63页 |
| 4.1 工艺流程图(INTELLISUITE) | 第43-44页 |
| 4.2 掩膜层 | 第44-45页 |
| 4.3 等离子体增强化学气相沉积法 | 第45页 |
| 4.4 光刻 | 第45-52页 |
| 4.4.1 前处理 | 第46-47页 |
| 4.4.2 旋转涂胶 | 第47页 |
| 4.4.3 软烘 | 第47-48页 |
| 4.4.4 对准和曝光 | 第48-50页 |
| 4.4.5 曝光后烘焙 | 第50-51页 |
| 4.4.6 显影 | 第51页 |
| 4.4.7 检查和硬烘 | 第51-52页 |
| 4.5 刻蚀 | 第52-55页 |
| 4.5.1 RIE刻蚀氮化硅 | 第53-55页 |
| 4.5.2 ICP刻蚀硅 | 第55页 |
| 4.6 去胶 | 第55-56页 |
| 4.7 实验制作步骤 | 第56-57页 |
| 4.8 太赫兹波透过率测试以及结果分析 | 第57-62页 |
| 4.9 本章小结 | 第62-63页 |
| 第五章 总结与展望 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-69页 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第69-70页 |