| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-21页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·半导体光催化研究概况 | 第11-15页 |
| ·半导体光催化技术特点 | 第12页 |
| ·半导体光催化反应机理 | 第12-14页 |
| ·影响光催化反应的重要因素 | 第14-15页 |
| ·Cu_2O的基本性质和主要用途 | 第15-19页 |
| ·Cu_2O的晶体结构和基本物理化学性质 | 第15-16页 |
| ·Cu_2O的主要用途 | 第16页 |
| ·Cu_2O的光催化研究 | 第16-17页 |
| ·改善Cu_2O光催化性能的途径 | 第17-18页 |
| ·Cu_2O薄膜的制备方法 | 第18-19页 |
| ·SnO_2的性质和光催化研究概况 | 第19-20页 |
| ·SnO_2的结构和性质 | 第19页 |
| ·SnO_2的光催化性能 | 第19-20页 |
| ·SnO_2的制备方法 | 第20页 |
| ·论文的选题思想 | 第20-21页 |
| 第二章 实验 | 第21-29页 |
| ·试剂 | 第21页 |
| ·实验用品与仪器 | 第21页 |
| ·多孔Cu/Cu_2O和Cu/Cu_2O/SnO_2复合薄膜的制备 | 第21-22页 |
| ·薄膜的可见光光催化性能 | 第22-23页 |
| ·薄膜的形貌、结构和光学性质分析 | 第23-29页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第23-24页 |
| ·能量失散X射线谱(EDXS) | 第24-25页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第25页 |
| ·X射线粉末衍射(XRD) | 第25-26页 |
| ·紫外-可见漫反射光谱(UV-Vis DRS) | 第26-27页 |
| ·荧光发射光谱(FS) | 第27-29页 |
| 第三章 多孔Cu/Cu_2O薄膜的制备及其可见光光催化性能 | 第29-44页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·结果与讨论 | 第29-40页 |
| ·多孔Cu薄膜的电化学制备 | 第29-32页 |
| ·多孔Cu/Cu_2O薄膜的制备及可见光光催化性能 | 第32-40页 |
| ·多孔Cu/Cu_2O薄膜光降解过程及稳定性 | 第40-42页 |
| ·本章小结 | 第42-44页 |
| 第四章 多孔Cu/Cu_2O/SnO_2薄膜的制备及其可见光光催化性能 | 第44-57页 |
| ·引言 | 第44-45页 |
| ·结果与讨论 | 第45-52页 |
| ·SnO_2的制备及沉积方法 | 第45页 |
| ·多孔Cu/Cu_2O/SnO_2薄膜的制备及其光催化性能 | 第45-52页 |
| ·多孔Cu/Cu_2O/SnO_2薄膜光催化降解RhB反应过程 | 第52-56页 |
| ·多孔Cu/Cu_2O/SnO_2薄膜的光催化性能 | 第52-53页 |
| ·无机阴离子的影响 | 第53-54页 |
| ·反应体系pH值的影响 | 第54-55页 |
| ·薄膜光催化性能的稳定性 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第五章 多孔Cu/Cu_2O和Cu/Cu_2O/SnO_2薄膜的光学性质 | 第57-64页 |
| ·引言 | 第57页 |
| ·结果与讨论 | 第57-63页 |
| ·多孔Cu/Cu_2O薄膜的光学性质和光催化反应机理 | 第57-60页 |
| ·多孔Cu/Cu_2O/SnO_2薄膜的光学性质 | 第60-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 第六章 总结与展望 | 第64-66页 |
| ·总结 | 第64页 |
| ·展望 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第76-77页 |
