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AlGaN异质结雪崩光电二极管的结构设计与制备

摘要第4-6页
ABSTRACT第6-8页
第一章 绪论第11-43页
    1.1 引言第11-13页
    1.2 Ⅲ族氮化物的基本结构和性质第13-19页
        1.2.1 Ⅲ族氮化物的晶体结构及物理特性第13-15页
        1.2.2 Ⅲ族氮化物的极化效应第15-19页
    1.3 雪崩光电二极管的基本原理和主要性能参数第19-26页
        1.3.1 APD的工作原理第19-20页
        1.3.2 APD的主要性能参数第20-26页
    1.4 Ⅲ族氮化物紫外探测器件的研究现状第26-36页
        1.4.1 紫外探测技术第26-27页
        1.4.2 Ⅲ族氮化物光电探测器件的常见结构第27-31页
        1.4.3 Ⅲ族氮化物存在的问题第31-33页
        1.4.4 AlGaN日盲APD的研究现状第33-36页
    参考文献第36-43页
第二章 异质结增强型AlGaN日盲APD的结构设计第43-66页
    2.1 引言第43页
    2.2 物理模型第43-51页
        2.2.1 漂移-扩散模型第43-44页
        2.2.2 载流子统计模型第44-45页
        2.2.3 迁移率模型第45-46页
        2.2.4 载流子产生复合模型第46-48页
        2.2.5 带间隧穿模型和雪崩离化系数模型第48-49页
        2.2.6 空间电荷不完全离化模型第49-51页
    2.3 数值算法第51页
    2.4 SAM型APD的设计原理第51-54页
    2.5 异质结增强型AlGaN APD的结构设计第54-61页
        2.5.1 异质结增强型APD的结构参数第55-56页
        2.5.2 异质结增强型APD的I-V特性以及电场分布第56-58页
        2.5.3 低Al组分倍增层的组分的影响以及组分优化第58-60页
        2.5.4 异质结增强型APD的光谱响应第60-61页
    2.6 本章小结第61-62页
    参考文献第62-66页
第三章 高增益AlGaN异质结深紫外APD的结构设计第66-79页
    3.1 引言第66页
    3.2 AlGaN异质结APD的设计原理第66-70页
    3.3 高增益AlGaN异质结APD的结构优化第70-76页
        3.3.1 n型插入层掺杂浓度和厚度的优化第70-74页
        3.3.2 n型插入层Al组分的优化第74-76页
    3.4 本章小结第76-77页
    参考文献第77-79页
第四章 AlGaN异质结深紫外APD的制备及光电特性研究第79-97页
    4.1 引言第79-80页
    4.2 AlGaN深紫外雪崩探测器的材料表征第80-83页
    4.3 AlGaN深紫外雪崩探测器的制备工艺的优化第83-87页
        4.3.1 三台面工艺第83-85页
        4.3.2 光电化学处理第85-87页
    4.4 AlGaN深紫外雪崩探测器的制备工艺流程第87-90页
    4.5 AlGaN深紫外雪崩探测器的光电学性能表征第90-93页
        4.5.1 AlGaN深紫外雪崩探测器的I-V特性及雪崩增益第90-92页
        4.5.2 AlGaN深紫外雪崩探测器的光谱响应曲线第92-93页
    4.6 本章小结第93-94页
    参考文献第94-97页
第五章 总结与展望第97-99页
致谢第99-100页
攻读博士期间发表的论文以及参加的会议第100-101页

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