| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-13页 |
| 1 绪论 | 第13-31页 |
| ·吸气材料 | 第13-14页 |
| ·吸气理论 | 第14-19页 |
| ·吸气过程基本原理 | 第14-15页 |
| ·吸气动力学 | 第15-19页 |
| ·吸气材料的激活与再生 | 第19页 |
| ·吸气剂薄膜的研究与发展概况 | 第19-24页 |
| ·吸气剂薄膜及应用 | 第19-22页 |
| ·国内外的研究现状 | 第22-24页 |
| ·发展趋势及存在的问题 | 第24页 |
| ·课题意义和论文内容 | 第24-26页 |
| ·课题意义 | 第24页 |
| ·研究内容 | 第24-26页 |
| 参考文献 | 第26-31页 |
| 2 相关理论与介绍 | 第31-45页 |
| ·薄膜生长理论 | 第31-36页 |
| ·薄膜生长概述 | 第31-32页 |
| ·薄膜的生长模式 | 第32-33页 |
| ·沉积速率和衬底温度对薄膜生长过程的影响 | 第33-34页 |
| ·薄膜的微观结构 | 第34-36页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第36-37页 |
| ·常用的薄膜制备方法 | 第36页 |
| ·磁控溅射镀膜 | 第36-37页 |
| ·薄膜的分析与表征 | 第37-43页 |
| ·组分表征 | 第37-39页 |
| ·薄膜形貌和结构 | 第39-40页 |
| ·薄膜吸气性能 | 第40-43页 |
| 参考文献 | 第43-45页 |
| 3 Zr-Co-Ce吸气剂薄膜的制备工艺及性能研究 | 第45-66页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·样品制备 | 第45-47页 |
| ·靶材制备与表征 | 第45-46页 |
| ·衬底清洗 | 第46页 |
| ·薄膜沉积 | 第46-47页 |
| ·直流磁控溅射与射频磁控溅射对比 | 第47-49页 |
| ·工艺参数对薄膜结构与性能的影响 | 第49-62页 |
| ·衬底温度对薄膜结构与性能的影响 | 第49-53页 |
| ·溅射气压对薄膜结构与性能的影响 | 第53-58页 |
| ·掠射角对薄膜结构的影响 | 第58-60页 |
| ·工作气体流量对薄膜结构与性能的影响 | 第60-62页 |
| ·本章小结 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-66页 |
| 4 Zr-Co-Ce吸气剂薄膜的结构与性能优化研究 | 第66-77页 |
| ·引言 | 第66页 |
| ·衬底除气工艺对薄膜吸气性能的影响 | 第66-67页 |
| ·样品制备 | 第66页 |
| ·薄膜吸气性能 | 第66-67页 |
| ·阻挡层对薄膜结构与性能的影响 | 第67-70页 |
| ·阻挡层的制备与表征 | 第68-69页 |
| ·薄膜吸气性能 | 第69-70页 |
| ·保护层对薄膜结构与性能的影响 | 第70-74页 |
| ·保护层薄膜的制备与表征 | 第70-71页 |
| ·保护层与薄膜吸气性能 | 第71-72页 |
| ·保护层的作用机理 | 第72-74页 |
| ·本章小结 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-77页 |
| 5 Zr-Co-Ce吸气剂薄膜的实用性评测 | 第77-88页 |
| ·引言 | 第77页 |
| ·激活温度对薄膜结构与性能的影响 | 第77-82页 |
| ·样品制备与表征 | 第77-79页 |
| ·激活温度与薄膜结构形貌 | 第79-81页 |
| ·激活温度与薄膜吸气性能 | 第81-82页 |
| ·清洗工艺对薄膜吸气性能的影响 | 第82-83页 |
| ·大气氧化对薄膜吸气性能的影响 | 第83-85页 |
| ·本章小结 | 第85-86页 |
| 参考文献 | 第86-88页 |
| 6 Zr-Co-Ce吸气剂薄膜的激活机理研究 | 第88-108页 |
| ·引言 | 第88页 |
| ·样品制备与表征 | 第88页 |
| ·ZrCoCe薄膜激活过程成分分析 | 第88-102页 |
| ·激活过程的表面成分分析 | 第88-100页 |
| ·激活过程的残气分析 | 第100-102页 |
| ·激活机理的热力学分析 | 第102-105页 |
| ·本章小结 | 第105-106页 |
| 参考文献 | 第106-108页 |
| 结论和展望 | 第108-110页 |
| 主要内容和结论 | 第108-109页 |
| 下一步工作展望 | 第109-110页 |
| 攻读博士学位期间取得的学术成果 | 第110-111页 |
| 致谢 | 第111-112页 |
| 作者简介 | 第112页 |