摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-9页 |
第一章 绪论 | 第9-13页 |
·引言 | 第9-10页 |
·选题依据和研究现状 | 第10-13页 |
第二章 SDC单层电解质薄膜的制备及性能 | 第13-18页 |
·SDC单层电解质薄膜的制备 | 第13-14页 |
·实验材料及仪器 | 第13-14页 |
·实验样品的制备 | 第14页 |
·SDC及SDC/STO电解质薄膜的表征 | 第14-15页 |
·SDC及SDC/STO电解质薄膜SEM分析 | 第14-15页 |
·SDC及SDC/STO电解质薄膜XRD分析 | 第15页 |
·结果与讨论 | 第15-17页 |
·SDC/MgO与SDC/STO/MgO电解质薄膜表面和断面SEM | 第15-16页 |
·SDC/MgO与SDC/STO/MgO电解质薄膜的XRD | 第16-17页 |
·本章小结 | 第17-18页 |
第三章 YSZ/SDC/STO电解质薄膜制备及性能 | 第18-23页 |
·YSZ/SDC/STO电解质薄膜的制备 | 第18页 |
·YSZ/SDC/STO电解质薄膜的性能表征 | 第18-19页 |
·YSZ/SDC/STO电解质薄膜SEM分析 | 第18页 |
·YSZ/SDC/STO电解质薄膜XRD分析 | 第18页 |
·YSZ/SDC/STO电解质薄膜能谱分析 | 第18-19页 |
·结果与讨论 | 第19-22页 |
·不同衬底温度电解质薄膜的表面和断面SEM | 第19-20页 |
·不同衬底温度电解质薄膜的XRD | 第20-21页 |
·700℃电解质薄膜的EDX分析 | 第21-22页 |
·本章小结 | 第22-23页 |
第四章 以STO为缓冲层的(SDC/YSZ)_N超晶格电解质薄膜的制备及性能 | 第23-33页 |
·STO/(SDC/YSZ)N超晶格电解质薄膜的制备 | 第23-24页 |
·STO/(SDC/YSZ)N超晶格电解质薄膜性能 | 第24-25页 |
·超晶格电解质薄膜的显微结构分析 | 第24页 |
·超晶格电解质薄膜的物相结构分析 | 第24页 |
·超晶格电解质薄膜的TEM分析 | 第24页 |
·超晶格电解质薄膜的EDS分析 | 第24页 |
·超晶格电解质薄膜的电学性能分析 | 第24-25页 |
·结果与讨论 | 第25-32页 |
·超晶格电解质薄膜的表面和断面SEM | 第25页 |
·超晶格电解质薄膜断面TEM | 第25-26页 |
·超晶格电解质薄膜断面EDS | 第26-27页 |
·不同层数超晶格电解质薄膜的XRD | 第27-28页 |
·超晶格电解质薄膜电学性能分析 | 第28-31页 |
·超晶格电解质薄膜的显微结构 | 第31-32页 |
·本章小结 | 第32-33页 |
参考文献 | 第33-36页 |
致谢 | 第36-37页 |
硕士期间发表学术论文 | 第37页 |