| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 论文的主要创新和贡献 | 第9-14页 |
| 第1章 绪论 | 第14-30页 |
| ·研究背景及意义 | 第14-15页 |
| ·CVD SiC纤维的发展以及研究现状 | 第15-21页 |
| ·CVD SiC纤维的表面 | 第15-18页 |
| ·CVD SiC纤维的界面 | 第18-21页 |
| ·化学气相沉积(Chemical vapor deposition, CVD) | 第21-24页 |
| ·CVD过程原则和沉积机理 | 第21-22页 |
| ·CVD沉积系统 | 第22-24页 |
| ·CVD技术的优点和缺点 | 第24页 |
| ·第一性原理计算模拟 | 第24-27页 |
| ·存在的主要问题 | 第27-28页 |
| ·主要研究内容与思路 | 第28-30页 |
| 第2章 实验和模拟方法 | 第30-46页 |
| ·制备碳涂层的实验过程与研究方法 | 第30-32页 |
| ·实验原料 | 第30页 |
| ·实验装置 | 第30页 |
| ·纤维拉伸性能测试 | 第30-32页 |
| ·涂层形貌和成分分析 | 第32页 |
| ·第一性原理基本理论及软件介绍 | 第32-44页 |
| ·第一性原理基本理论 | 第32-42页 |
| ·计算软件介绍 | 第42-44页 |
| ·小结 | 第44-46页 |
| 第3章 CVD SiC纤维表面碳涂层制备工艺 | 第46-64页 |
| ·前言 | 第46页 |
| ·碳涂层的制备 | 第46-58页 |
| ·一级沉积碳涂层 | 第47-53页 |
| ·两级制备碳涂层 | 第53-58页 |
| ·两级制备碳涂层对钛基复合材料界面的影响 | 第58-61页 |
| ·SiC纤维的拉伸性能测试 | 第58-59页 |
| ·碳涂层在复合材料中对纤维的保护作用 | 第59-61页 |
| ·小结 | 第61-64页 |
| 第4章 β-SiC(111)/α-W(110)界面第一性原理研究 | 第64-82页 |
| ·前言 | 第64-65页 |
| ·建模和计算方法 | 第65-66页 |
| ·体相和表面计算 | 第66-70页 |
| ·体相性质 | 第66-68页 |
| ·表面原子层数和表面能 | 第68-70页 |
| ·界面计算 | 第70-80页 |
| ·界面模型的构建 | 第70页 |
| ·粘附功和界面优化构型 | 第70-74页 |
| ·界面能 | 第74-75页 |
| ·界面电子结构 | 第75-80页 |
| ·小结 | 第80-82页 |
| 第5章 β-SiC(111)/α-WC(0001)界面第一性原理研究 | 第82-100页 |
| ·前言 | 第82-83页 |
| ·计算方法 | 第83-84页 |
| ·体相和表面计算 | 第84-88页 |
| ·α-WC体相性质 | 第84-86页 |
| ·表面原子层数和表面能 | 第86-88页 |
| ·界面计算 | 第88-99页 |
| ·界面模型的构建 | 第88-90页 |
| ·粘附功和优化后界面构型 | 第90-95页 |
| ·界面能 | 第95-96页 |
| ·界面断裂韧性 | 第96-97页 |
| ·界面结合本质 | 第97-99页 |
| ·小结 | 第99-100页 |
| 第6章 α-WC(0001)/α-W(110)界面第一性原理研究 | 第100-110页 |
| ·前言 | 第100-101页 |
| ·计算方法 | 第101页 |
| ·体相和表面计算 | 第101-102页 |
| ·体相性质 | 第101页 |
| ·表面原子层数 | 第101-102页 |
| ·界面计算 | 第102-108页 |
| ·界面模型的构建 | 第102-103页 |
| ·粘附功 | 第103-104页 |
| ·界面电子结构 | 第104-108页 |
| ·小结 | 第108-110页 |
| 第7章 TiCl_4在碳涂层表面吸附与分解的第一性原理研究 | 第110-140页 |
| ·前言 | 第110-111页 |
| ·模拟方法和模型构建 | 第111-114页 |
| ·模拟方法 | 第111页 |
| ·模型的构建 | 第111-114页 |
| ·H原子在碳涂层表面的吸附及H_2分子在碳涂层表面的分解过程 | 第114-118页 |
| ·H原子在碳涂层表面的吸附能及最优吸附位置 | 第114-115页 |
| ·H_2分子在碳涂层表面的分解过程 | 第115-118页 |
| ·TiCl_x(x=1~4)在碳涂层表面的吸附能和最优吸附位置 | 第118-129页 |
| ·TiCl_4在碳涂层表面的吸附能和最优吸附位置 | 第118-120页 |
| ·TiCl_3在碳涂层表面的吸附能和最优吸附方式 | 第120-124页 |
| ·TiCl_2在碳涂层表面的吸附能和最优吸附方式 | 第124-126页 |
| ·TiCl在碳涂层表面的吸附能和最优吸附方式 | 第126-129页 |
| ·Ti原子和Cl原子在碳涂层裸表面的吸附能和最优吸附位置 | 第129-131页 |
| ·TiCl_4在碳涂层表面的分解过程 | 第131-138页 |
| ·TiCl_4→TiCl_3 | 第132-133页 |
| ·TiCl_3→TiCl_2 | 第133-135页 |
| ·TiCl_2→TiCl | 第135-137页 |
| ·TiCl→Ti | 第137-138页 |
| ·小结 | 第138-140页 |
| 结论 | 第140-142页 |
| 参考文献 | 第142-154页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第154-156页 |
| 致谢 | 第156-157页 |
