摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-12页 |
第一章 绪论 | 第12-30页 |
·高压熔化规律研究意义 | 第12-13页 |
·高压熔化研究现状 | 第13-24页 |
·高压熔化理论研究 | 第13-14页 |
·高压熔化实验研究 | 第14-16页 |
·冲击过热熔化 | 第16-18页 |
·高压熔化数值模拟研究 | 第18-21页 |
·高压熔化研究进展 | 第21-24页 |
·本文研究内容 | 第24-25页 |
参考文献 | 第25-30页 |
第二章 大规模并行分子动力学数值模拟程序 | 第30-44页 |
·分子动力学基本原理 | 第30页 |
·分子动力学模拟流程 | 第30-38页 |
·模拟体系初始化 | 第31-33页 |
·系综与边界条件控制 | 第33-34页 |
·作用力计算与运动方程求解 | 第34-35页 |
·系统性质统计分析 | 第35-38页 |
·大规模并行分子动力学模拟 | 第38-39页 |
·基于JASMIN框架的大规模并行分子动力学程序平台 | 第39-43页 |
参考文献 | 第43-44页 |
第三章 单晶铜冲击熔化以及晶向依赖性 | 第44-58页 |
·引言 | 第44-45页 |
·模型与方法 | 第45页 |
·模拟结果与分析 | 第45-56页 |
·[110]方向冲击加载 | 第45-52页 |
·[111]方向冲击加载 | 第52-54页 |
·[100]方向冲击加载 | 第54-56页 |
·本章小结 | 第56页 |
参考文献 | 第56-58页 |
第四章 含纳米孔洞单晶铜冲击熔化 | 第58-66页 |
·引言 | 第58-59页 |
·模型与方法 | 第59页 |
·结果与讨论 | 第59-64页 |
·本章小结 | 第64页 |
参考文献 | 第64-66页 |
第五章 含扭转晶界双晶铜冲击熔化 | 第66-77页 |
·引言 | 第66页 |
·模型与方法 | 第66-67页 |
·结果与讨论 | 第67-74页 |
·高能扭转晶界 | 第68-72页 |
·低能扭转晶界 | 第72-73页 |
·双晶铜冲击Hugoniot关系 | 第73-74页 |
·本章小结 | 第74-75页 |
参考文献 | 第75-77页 |
第六章 纳米柱状多晶铜冲击熔化 | 第77-92页 |
·引言 | 第77页 |
·模型与方法 | 第77-79页 |
·结果与讨论 | 第79-90页 |
·纳米多晶冲击Hugoniot关系 | 第79-80页 |
·T1方向冲击加载 | 第80-86页 |
·T2方向冲击加载 | 第86-87页 |
·L方向冲击加载 | 第87-90页 |
·本章小结 | 第90-91页 |
参考文献 | 第91-92页 |
第七章 单晶铜卸载熔化与晶向依赖性 | 第92-102页 |
·引言 | 第92-93页 |
·模型与方法 | 第93页 |
·结果与讨论 | 第93-100页 |
·[110]与[111]方向卸载熔化 | 第93-96页 |
·[100]方向卸载熔化 | 第96-97页 |
·卸载路径特征 | 第97-99页 |
·卸载熔化速度 | 第99-100页 |
·本章小结 | 第100-101页 |
参考文献 | 第101-102页 |
第八章 金属铜表面沟槽射流与射流破碎 | 第102-114页 |
·引言 | 第102-103页 |
·单晶铜表面沟槽微射流 | 第103-106页 |
·模型与方法 | 第103-104页 |
·模拟结果与分析 | 第104-106页 |
·表面沟槽微射流破碎与颗粒度分布 | 第106-110页 |
·模型与方法 | 第106-107页 |
·模拟结果与分析 | 第107-110页 |
·典型表面形貌金属铜微喷射 | 第110-112页 |
·模型与方法 | 第110页 |
·模拟结果与分析 | 第110-112页 |
·本章小结 | 第112页 |
参考文献 | 第112-114页 |
第九章 全文总结与未来工作展望 | 第114-117页 |
·全文总结 | 第114-116页 |
·未来工作展望 | 第116-117页 |
致谢 | 第117-118页 |
附录 | 第118-119页 |