摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
引言 | 第9-10页 |
第1章 文献综述 | 第10-24页 |
·TiN 及其薄膜的晶体结构 | 第10-11页 |
·TiN 薄膜的性能及应用 | 第11-16页 |
·TiN 薄膜的力学性能及在机械加工中应用 | 第11-12页 |
·TiN 薄膜的电学性能及在电子领域中应用 | 第12-13页 |
·TiN 薄膜的光学性能及在仿金、节能涂层中应用 | 第13-16页 |
·TiN 薄膜的生物相容性及在医学领域中应用 | 第16页 |
·TiN 薄膜的制备方法简介 | 第16-21页 |
·物理气相沉积法 | 第17-19页 |
·化学气相沉积法 | 第19页 |
·等离子体浸没离子注入与沉积 | 第19-20页 |
·溶胶-凝胶还原氮化法 | 第20-21页 |
·非水解溶胶-凝胶法简介 | 第21-22页 |
·课题的提出 | 第22-24页 |
第2章 研究内容与研究方法 | 第24-29页 |
·研究目标 | 第24页 |
·研究内容 | 第24-25页 |
·水解及非水解碳热还原氮化形成 TiN 的反应历程研究 | 第24页 |
·前驱体溶液制备工艺对 TiN 薄膜结构与性能的影响 | 第24页 |
·碳热还原氮化工艺对 TiN 薄膜结构与性能的影响 | 第24-25页 |
·实验原料 | 第25页 |
·实验用及检测仪器设备 | 第25-26页 |
·研究方法 | 第26-27页 |
·基片的预处理 | 第26页 |
·以非水解溶胶-凝胶法制备 TiO_2溶胶为钛源合成 TiN 薄膜 | 第26页 |
·以水解溶胶-凝胶法制备的 TiO_2溶胶为钛源制备 TiN 薄膜 | 第26-27页 |
·样品性能表征 | 第27-28页 |
·综合热分析 | 第27-28页 |
·射线衍射分析 | 第28页 |
·场发射扫描电镜分析 | 第28页 |
·紫外-可见-近红外光透过与反射光谱测定 | 第28页 |
·显微硬度分析 | 第28页 |
·关键问题与创新点 | 第28-29页 |
·关键问题 | 第28页 |
·创新点 | 第28-29页 |
第3章 水解及非水解 TiO_2凝胶还原氮化形成 TiN 的过程研究 | 第29-36页 |
·实验方案 | 第29-30页 |
·以水解法制备 TiO_2前驱体为钛源制备 TiN 粉体及薄膜 | 第29页 |
·以非水解法制制备 TiO_2前驱体为钛源制备 TiN 粉体及薄膜 | 第29-30页 |
·测试与表征 | 第30页 |
·结果与讨论 | 第30-35页 |
·水解及非水解法制备 TiO_2凝胶/PVP 的热分析 | 第30-31页 |
·水解及非水解法制备 TiO_2凝胶/PVP 还原氮化过程中的物相分析 | 第31-33页 |
·水解及非水解溶胶-凝胶法对制备 TiN 薄膜的影响 | 第33-35页 |
·小结 | 第35-36页 |
第4章 前驱体溶液制备工艺对 TiN 薄膜结构与性能的影响 | 第36-50页 |
·实验方案 | 第36-37页 |
·采用不同分子量的 PVP 制备 TiN 薄膜 | 第36页 |
·采用不同用量的 PVP 制备 TiN 薄膜 | 第36页 |
·采用不同用量的溶剂制备 TiN 薄膜 | 第36-37页 |
·测试与表征 | 第37页 |
·结果与讨论 | 第37-48页 |
·PVP 分子量对 TiN 薄膜显微结构及性能的影响 | 第37-40页 |
·PVP 用量对 TiN 薄膜显微结构与性能的影响 | 第40-45页 |
·溶剂用量对 TiN 薄膜显微结构与性能的影响 | 第45-48页 |
·小结 | 第48-50页 |
第5章 碳热还原氮化工艺对 TiN 薄膜结构与性能的影响 | 第50-62页 |
·实验方案 | 第50-51页 |
·采用不同合成温度制备 TiN 薄膜 | 第50页 |
·采用不同保温时间制备 TiN 薄膜 | 第50页 |
·采用不同 N2流量制备 TiN 薄膜 | 第50-51页 |
·测试与表征 | 第51页 |
·结果与讨论 | 第51-60页 |
·合成温度对 TiN 薄膜显微结构与性能的影响 | 第51-54页 |
·保温时间对 TiN 薄膜显微结构与性能的影响 | 第54-57页 |
·N_2流量对 TiN 薄膜显微结构与性能的影响 | 第57-60页 |
·小结 | 第60-62页 |
结论 | 第62-63页 |
参考文献 | 第63-69页 |
致谢 | 第69-70页 |
导师简介 | 第70-71页 |
作者简介 | 第71-72页 |
学位论文数据集 | 第72页 |