| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-6页 |
| 第一章 文献综述 | 第6-18页 |
| §1．1 简介 | 第6-8页 |
| §1．2 ZnO薄膜的制备与技术开发 | 第8-11页 |
| §1．3 ZnO薄膜的基本性质 | 第11-13页 |
| §1．4 ZnO薄膜的应用与产业前景 | 第13-14页 |
| §1．5 本论文研究内容 | 第14-18页 |
| 第二章 ZnO薄膜的制备 | 第18-31页 |
| §2．1 电子束反应蒸发原理 | 第18-21页 |
| §2．2 实验设备简述 | 第21-26页 |
| §2．2．1 真空蒸发设备 | 第21-22页 |
| §2．2．2 蒸发源的类型 | 第22-24页 |
| §2．2．3 特殊的蒸发 | 第24-26页 |
| §2．3 影响薄膜质量的因素 | 第26-27页 |
| §2．4 衬底的预处理及清洗 | 第27-28页 |
| §2．4．1 衬底的预处理工艺 | 第27页 |
| §2．4．2 Shiraki清洗方法 | 第27-28页 |
| §2．5 ZnO薄膜的制备 | 第28-31页 |
| §2．5．1 玻璃衬底 | 第28-29页 |
| §2．5．2 Si（001）衬底 | 第29-31页 |
| 第三章 ZnO薄膜的X射线衍射 | 第31-45页 |
| §3．1 X射线运动学衍射原理 | 第31-36页 |
| §3．1．1 X射线衍射方向 | 第31-34页 |
| §3．1．2 X射线衍射强度 | 第34-36页 |
| §3．2 X射线双晶衍射仪 | 第36-41页 |
| §3．2．1 X射线双晶衍射仪的几何原理 | 第36-39页 |
| §3．2．2 双晶衍射仪的构造及调试 | 第39-41页 |
| §3．3 生长温度对ZnO薄膜X射线衍射光谱地影响 | 第41-45页 |
| 第四章 ZnO薄膜的AFM研究 | 第45-58页 |
| §4．1 AFM介绍 | 第45-49页 |
| §4．2 实验仪器介绍 | 第49-51页 |
| §4．3 衬底温度对ZnO薄膜显微结构的影响 | 第51-56页 |
| §4．3．1 玻璃衬底 | 第51-54页 |
| §4．3．2 硅（001）衬底 | 第54-56页 |
| §4．4 小结 | 第56-58页 |
| 第五章 ZnO薄膜的喇曼光谱分析 | 第58-72页 |
| §5．1 喇曼散射的概述 | 第58-62页 |
| §5．2 晶体喇曼散射的基本理论 | 第62-64页 |
| §5．3 晶体喇曼散射实验设计 | 第64-66页 |
| §5．4 ZnO薄膜的喇曼散射 | 第66-72页 |
| §5．4．1 ZnO薄膜的喇曼散射强度 | 第66-69页 |
| §5．4．2 ZnO薄膜的喇曼光谱分析 | 第69-72页 |
| 第六章 结论 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73页 |
| 附录： 在硕士期间发表的论文 | 第73页 |