| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-14页 |
| 第1章 绪论 | 第14-30页 |
| ·课题背景及研究目的和意义 | 第14-15页 |
| ·AlN薄膜的晶体结构与性质 | 第15-17页 |
| ·AlN薄膜的晶体结构 | 第15-16页 |
| ·AlN薄膜的性质 | 第16-17页 |
| ·AlN薄膜材料的合成方法 | 第17-19页 |
| ·射频磁控反应溅射的工作原理 | 第19-22页 |
| ·制备AlN薄膜的衬底选择 | 第22-24页 |
| ·AlN薄膜的应用 | 第24-27页 |
| ·AlN薄膜的研究进展 | 第27-28页 |
| ·高取向AlN薄膜的研究进展 | 第27页 |
| ·单晶AlN的研究进展 | 第27-28页 |
| ·制备AlN薄膜面临的问题 | 第28-29页 |
| ·本文的研究内容 | 第29-30页 |
| 第2章 实验方法 | 第30-37页 |
| ·AlN薄膜制备设备 | 第30-31页 |
| ·原料及试剂 | 第31-32页 |
| ·材料分析设备 | 第32-37页 |
| 第3章 磁控溅射法6H-SiC基体上制备高C轴取向的AlN薄膜 | 第37-76页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·实验方法与条件 | 第37页 |
| ·反应气压对碳化硅衬底上制备AlN薄膜的影响 | 第37-51页 |
| ·AlN薄膜的制备工艺及参数 | 第37-38页 |
| ·薄膜组分及化学结构分析 | 第38-41页 |
| ·薄膜晶体结构分析 | 第41-45页 |
| ·表面形貌分析 | 第45-49页 |
| ·薄膜光学性能 | 第49-51页 |
| ·氮气浓度对碳化硅衬底上制备AlN薄膜的影响 | 第51-62页 |
| ·AlN薄膜的制备工艺及参数 | 第51-52页 |
| ·薄膜组分及化学结构分析 | 第52-54页 |
| ·薄膜晶体结构分析 | 第54-57页 |
| ·表面形貌分析 | 第57-60页 |
| ·光学性能 | 第60-62页 |
| ·射频功率对碳化硅衬底上制备AlN薄膜的影响 | 第62-74页 |
| ·AlN薄膜的制备工艺及参数 | 第62-63页 |
| ·薄膜组分及化学结构分析 | 第63-67页 |
| ·薄膜晶体结构分析 | 第67-70页 |
| ·表面形貌分析 | 第70-72页 |
| ·光学性能 | 第72-74页 |
| ·本章小结 | 第74-76页 |
| 第4章 磁控溅射法蓝宝石基体上制备高C轴取向的AlN薄膜 | 第76-90页 |
| ·引言 | 第76页 |
| ·实验方法与条件 | 第76-77页 |
| ·结果与讨论 | 第77-88页 |
| ·薄膜晶体结构 | 第77-80页 |
| ·薄膜表面形貌 | 第80-81页 |
| ·薄膜表面粗糙度和生长速率 | 第81-83页 |
| ·薄膜化学组成与化学结构 | 第83-86页 |
| ·光学性能 | 第86-88页 |
| ·本章小结 | 第88-90页 |
| 第5章 高C轴取向AlN薄膜的低温磁控溅射生长 | 第90-103页 |
| ·引言 | 第90页 |
| ·实验方法与条件 | 第90-91页 |
| ·结果和讨论 | 第91-102页 |
| ·薄膜晶体结构 | 第91-96页 |
| ·表面形貌 | 第96-97页 |
| ·薄膜化学成分与化学结构 | 第97-100页 |
| ·光学性能 | 第100-102页 |
| ·本章小结 | 第102-103页 |
| 结论 | 第103-105页 |
| 参考文献 | 第105-118页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第118-121页 |
| 致谢 | 第121-122页 |
| 个人简历 | 第122页 |